Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures (1994)
- Authors:
- Autor USP: VERDONCK, PATRICK BERNARD - EP
- Unidade: EP
- Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Publisher: Sbmicro/Ufrj
- Publisher place: Rio de Janeiro
- Date published: 1994
- Source:
- Título do periódico: Anais
- Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica
-
ABNT
VERDONCK, Patrick Bernard e MANSANO, Ronaldo Domingues. Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 24 abr. 2024. -
APA
Verdonck, P. B., & Mansano, R. D. (1994). Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj. -
NLM
Verdonck PB, Mansano RD. Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures. Anais. 1994 ;[citado 2024 abr. 24 ] -
Vancouver
Verdonck PB, Mansano RD. Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures. Anais. 1994 ;[citado 2024 abr. 24 ] - Desenvolvimento de um processo de corrosao de aluminio por plasma de cc14+n2
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