Cyclic-fluorovoltammetry as a technical tool in the study of, passivating films generated on electrode surfaces (1985)
- Authors:
- USP affiliated authors: SALA, OSWALDO - IQ ; GUTZ, IVANO GEBHARDT ROLF - IQ ; RUBIM, JOEL CAMARGO - IQ
- Unidade: IQ
- DOI: 10.1016/0022-0728(85)80075-9
- Assunto: VOLTAMETRIA
- Language: Português
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Journal of Eletroanalytical Chemistry
- Volume/Número/Paginação/Ano: v.190, p.55-63, 1985
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
RUBIM, J C e GUTZ, Ivano Gebhardt Rolf e SALA, O. Cyclic-fluorovoltammetry as a technical tool in the study of, passivating films generated on electrode surfaces. Journal of Eletroanalytical Chemistry, v. 190, p. 55-63, 1985Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/0022-0728(85)80075-9. Acesso em: 24 abr. 2024. -
APA
Rubim, J. C., Gutz, I. G. R., & Sala, O. (1985). Cyclic-fluorovoltammetry as a technical tool in the study of, passivating films generated on electrode surfaces. Journal of Eletroanalytical Chemistry, 190, 55-63. doi:10.1016/0022-0728(85)80075-9 -
NLM
Rubim JC, Gutz IGR, Sala O. Cyclic-fluorovoltammetry as a technical tool in the study of, passivating films generated on electrode surfaces [Internet]. Journal of Eletroanalytical Chemistry. 1985 ;190 55-63.[citado 2024 abr. 24 ] Available from: https://doi.org/10.1016/0022-0728(85)80075-9 -
Vancouver
Rubim JC, Gutz IGR, Sala O. Cyclic-fluorovoltammetry as a technical tool in the study of, passivating films generated on electrode surfaces [Internet]. Journal of Eletroanalytical Chemistry. 1985 ;190 55-63.[citado 2024 abr. 24 ] Available from: https://doi.org/10.1016/0022-0728(85)80075-9 - Analytical potentiality, of the sers ( surface enhanced raman scattering effect on electrode surfaces)
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Informações sobre o DOI: 10.1016/0022-0728(85)80075-9 (Fonte: oaDOI API)
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