Estudo e determinacao de um processo fotolitografico utilizando fotorresiste positivo, visando a aplicacao industrial

Estudo e determinacao de um processo fotolitografico utilizando fotorresiste positivo, visando a aplicacao industrial (1994)

Autores:
- Silva, Claudio Morais de Assis
- Furlan, Rogério (Orientador)
Autor USP: SILVA, CLAUDIO MORAIS DE ASSIS - EP
Unidade: EP
Sigla do Departamento: PMT
Assunto: RESISTÊNCIA DOS MATERIAIS
Idioma: Português
Resumo: Neste trabalho, sao estudados as tecnicas e metodos para a determinacao de um processo fotolitografico, utilizando-se fotorresiste positivo. Este processo foi desenvolvido em ambiente industrial. Sao discutidos os problemas de obtencao, exposicao, revelacao e cozimento da camada de fotorresiste. Trata-se, tambem, dos problemas relacionados a definicao de geometrias na camada de fotorresiste. O processo desenvolvido permitiu definir geometrias de 3'MICROMETROS' a 2 'MICROMETROS' em camadas de fotorresiste de 1,2 'MICROMETROS' a 1,6 'MICROMETROS' de espessura. O fotorresiste e o revelador utilizados foram o hpr204 e hprd419 respectivamente. O estudo estabeleceu as influencias das variaveis do processo na determinacao da espessura e das dimensoes definidas na camada de fotorresiste. Para isso, foram utilizados projetos fatoriais, que consistem em tecnicas estatisticas para a elaboracao e execucao de experimentos. Estes projetos permitem a determinacao qualitativa e quantitativa das influencias das variaveis do processo nas dimensoes das geometrias. Foram obtidas, tambem, as curvas que caracterizam o processo.
Imprenta:
- Local: São Paulo
- Data de publicação: 1994
Data da defesa: 17.06.1994

A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas

ABNT

SILVA, Claudio Morais de Assis. Estudo e determinacao de um processo fotolitografico utilizando fotorresiste positivo, visando a aplicacao industrial. 1994. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1994. . Acesso em: 16 abr. 2024.
APA

Silva, C. M. de A. (1994). Estudo e determinacao de um processo fotolitografico utilizando fotorresiste positivo, visando a aplicacao industrial (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo.
NLM

Silva CM de A. Estudo e determinacao de um processo fotolitografico utilizando fotorresiste positivo, visando a aplicacao industrial. 1994 ;[citado 2024 abr. 16 ]
Vancouver

Silva CM de A. Estudo e determinacao de um processo fotolitografico utilizando fotorresiste positivo, visando a aplicacao industrial. 1994 ;[citado 2024 abr. 16 ]