Oxidação térmica do silicio: um estudo do método de oxidação com vapor de água (1972)
- Authors:
- Autor USP: ANDRADE, ADNEI MELGES DE - EP
- Unidade: EP
- Sigla do Departamento: PEL
- Subjects: OXIDAÇÃO; SILÍCIO
- Language: Português
- Abstract: A obtenção de camadas de óxido sobre substratos de silício é uma necessidade básica da tecnologia planar de construção de dispositivos semicondutores. O dióxido de silício, na técnica planar, assume várias funções: ou como ferramenta na obtenção e proteção dos dispositivos, ou como parte integrante ativa dos mesmos, como é o caso dos dispositivos MOS. O objetivo deste trabalho é adquirir o conhecimento e a compreensão dos processos que envolvem o crescimento de camadas de óxido em superfícies de silício, de modo a se ter condições de utilizá-lo na técnica planar. A primeira parte do trabalho mostra os vários métodos de obtenção de camadas de óxido em substratos, descrevendo-os brevemente. Essa descrição inclui comentários sobre as características dos óxidos, decorrentes do processo usado na sua obtenção. Em seguida é feita uma descrição fenomenológica do método de crescimento térmico de óxidos com vapor de água, método este que constitui o enfoque principal do trabalho. São apresentados os resultados de um estudo sobre este método de obtenção de dióxido de silício, através das curvas de espessura da camada obtida, versus tempo de oxidação, tendo a temperatura como parâmetro. Apresenta-se, também, os resultados da caracterização do dióxido de silício através de suas propriedades físicas e químicas.
- Imprenta:
- Data da defesa: 00.00.1972
-
ABNT
ANDRADE, Adnei Melges de. Oxidação térmica do silicio: um estudo do método de oxidação com vapor de água. 1972. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1972. . Acesso em: 19 abr. 2024. -
APA
Andrade, A. M. de. (1972). Oxidação térmica do silicio: um estudo do método de oxidação com vapor de água (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. -
NLM
Andrade AM de. Oxidação térmica do silicio: um estudo do método de oxidação com vapor de água. 1972 ;[citado 2024 abr. 19 ] -
Vancouver
Andrade AM de. Oxidação térmica do silicio: um estudo do método de oxidação com vapor de água. 1972 ;[citado 2024 abr. 19 ] - Ink jet deposition of polyfluorene to PLEDs displays
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