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  • Fonte: IEEE Transactions on Electron Devices. Unidade: EP

    Assuntos: TRANSISTORES, SILÍCIO

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    • ABNT

      BORDALLO, Caio Cesar Mendes et al. Impact of the NW-TFET Diameter on the Efficiency and the Intrinsic Voltage Gain From a Conduction Regime Perspective. IEEE Transactions on Electron Devices, v. 63, n. 7, p. 2930-2935, 2016Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1109/ted.2016.2559580. Acesso em: 17 nov. 2025.
    • APA

      Bordallo, C. C. M., Claeys, C., Thean, A., Simoen, E., Vandooren, A., Rooyackers, R., et al. (2016). Impact of the NW-TFET Diameter on the Efficiency and the Intrinsic Voltage Gain From a Conduction Regime Perspective. IEEE Transactions on Electron Devices, 63( 7), 2930-2935. doi:10.1109/ted.2016.2559580
    • NLM

      Bordallo CCM, Claeys C, Thean A, Simoen E, Vandooren A, Rooyackers R, Agopian PGD, Sivieri V de B, Martino JA. Impact of the NW-TFET Diameter on the Efficiency and the Intrinsic Voltage Gain From a Conduction Regime Perspective [Internet]. IEEE Transactions on Electron Devices. 2016 ; 63( 7): 2930-2935.[citado 2025 nov. 17 ] Available from: https://doi.org/10.1109/ted.2016.2559580
    • Vancouver

      Bordallo CCM, Claeys C, Thean A, Simoen E, Vandooren A, Rooyackers R, Agopian PGD, Sivieri V de B, Martino JA. Impact of the NW-TFET Diameter on the Efficiency and the Intrinsic Voltage Gain From a Conduction Regime Perspective [Internet]. IEEE Transactions on Electron Devices. 2016 ; 63( 7): 2930-2935.[citado 2025 nov. 17 ] Available from: https://doi.org/10.1109/ted.2016.2559580
  • Fonte: IEEE Transactions on Electron Devices. Unidade: EP

    Assuntos: MICROELETRÔNICA, TRANSISTORES, SILÍCIO

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    • ABNT

      AGOPIAN, Paula Ghedini Der et al. Influence of the Source Composition on the Analog Performance Parameters of Vertical Nanowire-TFETs. IEEE Transactions on Electron Devices, v. 62, n. Ja 2015, p. 16-22, 2015Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1109/ted.2014.2367659. Acesso em: 17 nov. 2025.
    • APA

      Agopian, P. G. D., Martino, J. A., Santos, S. D. dos, Rooyackers, R., & Vandoren, A. (2015). Influence of the Source Composition on the Analog Performance Parameters of Vertical Nanowire-TFETs. IEEE Transactions on Electron Devices, 62( Ja 2015), 16-22. doi:10.1109/ted.2014.2367659
    • NLM

      Agopian PGD, Martino JA, Santos SD dos, Rooyackers R, Vandoren A. Influence of the Source Composition on the Analog Performance Parameters of Vertical Nanowire-TFETs [Internet]. IEEE Transactions on Electron Devices. 2015 ; 62( Ja 2015): 16-22.[citado 2025 nov. 17 ] Available from: https://doi.org/10.1109/ted.2014.2367659
    • Vancouver

      Agopian PGD, Martino JA, Santos SD dos, Rooyackers R, Vandoren A. Influence of the Source Composition on the Analog Performance Parameters of Vertical Nanowire-TFETs [Internet]. IEEE Transactions on Electron Devices. 2015 ; 62( Ja 2015): 16-22.[citado 2025 nov. 17 ] Available from: https://doi.org/10.1109/ted.2014.2367659
  • Fonte: IEEE Transactions on Electron Devices. Unidade: EP

    Assuntos: SILÍCIO, FILMES FINOS, AVALIAÇÃO DE DESEMPENHO, TRANSISTORES

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    • ABNT

      SANTOS, Sara Dereste dos et al. On the Variability of the Front-/Back-Channel LF Noise in UTBOX SOI nMOSFETs. IEEE Transactions on Electron Devices, v. 60, n. 1, p. 444-450, 2013Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1109/ted.2012.2227749. Acesso em: 17 nov. 2025.
    • APA

      Santos, S. D. dos, Nicoletti, T., Martino, J. A., Aoulaiche, M., Veloso, A., Jurczak, M., et al. (2013). On the Variability of the Front-/Back-Channel LF Noise in UTBOX SOI nMOSFETs. IEEE Transactions on Electron Devices, 60( 1), 444-450. doi:10.1109/ted.2012.2227749
    • NLM

      Santos SD dos, Nicoletti T, Martino JA, Aoulaiche M, Veloso A, Jurczak M, Simoen E, Claeys C. On the Variability of the Front-/Back-Channel LF Noise in UTBOX SOI nMOSFETs [Internet]. IEEE Transactions on Electron Devices. 2013 ; 60( 1): 444-450.[citado 2025 nov. 17 ] Available from: https://doi.org/10.1109/ted.2012.2227749
    • Vancouver

      Santos SD dos, Nicoletti T, Martino JA, Aoulaiche M, Veloso A, Jurczak M, Simoen E, Claeys C. On the Variability of the Front-/Back-Channel LF Noise in UTBOX SOI nMOSFETs [Internet]. IEEE Transactions on Electron Devices. 2013 ; 60( 1): 444-450.[citado 2025 nov. 17 ] Available from: https://doi.org/10.1109/ted.2012.2227749
  • Fonte: IEEE Transactions on Electron Devices. Unidade: EP

    Assuntos: AVALIAÇÃO DE DESEMPENHO, TRANSISTORES

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    • ABNT

      AGOPIAN, Paula Ghedini Der et al. Experimental Comparison Between Trigate p-TFET and p-FinFET Analog Performance as a Function of Temperature. IEEE Transactions on Electron Devices, v. 60, n. 8, p. 2493-2497, 2013Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1109/ted.2013.2267614. Acesso em: 17 nov. 2025.
    • APA

      Agopian, P. G. D., Simoen, E., Vandooren, A., Rooyackers, R., & Martino, J. A. (2013). Experimental Comparison Between Trigate p-TFET and p-FinFET Analog Performance as a Function of Temperature. IEEE Transactions on Electron Devices, 60( 8), 2493-2497. doi:10.1109/ted.2013.2267614
    • NLM

      Agopian PGD, Simoen E, Vandooren A, Rooyackers R, Martino JA. Experimental Comparison Between Trigate p-TFET and p-FinFET Analog Performance as a Function of Temperature [Internet]. IEEE Transactions on Electron Devices. 2013 ; 60( 8): 2493-2497.[citado 2025 nov. 17 ] Available from: https://doi.org/10.1109/ted.2013.2267614
    • Vancouver

      Agopian PGD, Simoen E, Vandooren A, Rooyackers R, Martino JA. Experimental Comparison Between Trigate p-TFET and p-FinFET Analog Performance as a Function of Temperature [Internet]. IEEE Transactions on Electron Devices. 2013 ; 60( 8): 2493-2497.[citado 2025 nov. 17 ] Available from: https://doi.org/10.1109/ted.2013.2267614

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