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Dissertação (Mestrado)
Fabricação e caracterização de transistor BESOI MOSFET com dopagem lateral (2024)
Ramos, Daniel Augusto; Martino, João Antonio (Orientador) ; Rangel, Ricardo Cardoso (coorient)
Unidade: EP
Assunto: TRANSISTORES
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ABNT
RAMOS, Daniel Augusto. Fabricação e caracterização de transistor BESOI MOSFET com dopagem lateral. 2024. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2024. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-10022025-084139/pt-br.php. Acesso em: 24 nov. 2025.
APA
Ramos, D. A. (2024). Fabricação e caracterização de transistor BESOI MOSFET com dopagem lateral (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-10022025-084139/pt-br.php
NLM
Ramos DA. Fabricação e caracterização de transistor BESOI MOSFET com dopagem lateral [Internet]. 2024 ;[citado 2025 nov. 24 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-10022025-084139/pt-br.php
Vancouver
Ramos DA. Fabricação e caracterização de transistor BESOI MOSFET com dopagem lateral [Internet]. 2024 ;[citado 2025 nov. 24 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-10022025-084139/pt-br.php
Artigo de periodico
ISFET fabrication and characterization for hydrogen peroxide sensing (2023)
Duarte, Pedro Henrique; Rangel, Ricardo Cardoso; Ramos, Daniel Augusto; Yojo, Leonardo Shimizu; Mori, Carlos Augusto Bergfeld; Sasaki, Katia Regina Akemi; Agopian, Paula Ghedini Der ; Martino, João Antonio
Fonte: Journal of Integrated Circuits and Systems. Unidade: EP
Assuntos: TRANSISTORES, SOLUÇÕES
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ABNT
DUARTE, Pedro Henrique et al. ISFET fabrication and characterization for hydrogen peroxide sensing. Journal of Integrated Circuits and Systems, v. 18, n. 1, p. 1-4, 2023Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.29292/jics.v18i1.646. Acesso em: 24 nov. 2025.
APA
Duarte, P. H., Rangel, R. C., Ramos, D. A., Yojo, L. S., Mori, C. A. B., Sasaki, K. R. A., et al. (2023). ISFET fabrication and characterization for hydrogen peroxide sensing. Journal of Integrated Circuits and Systems, 18( 1), 1-4. doi:10.29292/jics.v18i1.646
NLM
Duarte PH, Rangel RC, Ramos DA, Yojo LS, Mori CAB, Sasaki KRA, Agopian PGD, Martino JA. ISFET fabrication and characterization for hydrogen peroxide sensing [Internet]. Journal of Integrated Circuits and Systems. 2023 ; 18( 1): 1-4.[citado 2025 nov. 24 ] Available from: https://doi.org/10.29292/jics.v18i1.646
Vancouver
Duarte PH, Rangel RC, Ramos DA, Yojo LS, Mori CAB, Sasaki KRA, Agopian PGD, Martino JA. ISFET fabrication and characterization for hydrogen peroxide sensing [Internet]. Journal of Integrated Circuits and Systems. 2023 ; 18( 1): 1-4.[citado 2025 nov. 24 ] Available from: https://doi.org/10.29292/jics.v18i1.646
Trabalho de evento
Influence of the source/drain doping region on the reconfigurability of BESOI MOSFET (2023)
Ramos, Daniel Augusto; Sasaki, Kátia Regina Akemi ; Rangel, Ricardo Cardoso; Duarte, Pedro Henrique; Martino, João Antonio
Fonte: SBMicro. Nome do evento: Symposium on Microelectronics Technology and Devices. Unidade: EP
Assuntos: DISPOSITIVOS ELETRÔNICOS, TRANSISTORES, MICROELETRÔNICA
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ABNT
RAMOS, Daniel Augusto et al. Influence of the source/drain doping region on the reconfigurability of BESOI MOSFET. 2023, Anais.. [Piscataway, N.J.]: IEEE, 2023. Disponível em: https://doi.org/10.1109/SBMicro60499.2023.10302644. Acesso em: 24 nov. 2025.
APA
Ramos, D. A., Sasaki, K. R. A., Rangel, R. C., Duarte, P. H., & Martino, J. A. (2023). Influence of the source/drain doping region on the reconfigurability of BESOI MOSFET. In SBMicro. [Piscataway, N.J.]: IEEE. doi:10.1109/SBMicro60499.2023.10302644
NLM
Ramos DA, Sasaki KRA, Rangel RC, Duarte PH, Martino JA. Influence of the source/drain doping region on the reconfigurability of BESOI MOSFET [Internet]. SBMicro. 2023 ;[citado 2025 nov. 24 ] Available from: https://doi.org/10.1109/SBMicro60499.2023.10302644
Vancouver
Ramos DA, Sasaki KRA, Rangel RC, Duarte PH, Martino JA. Influence of the source/drain doping region on the reconfigurability of BESOI MOSFET [Internet]. SBMicro. 2023 ;[citado 2025 nov. 24 ] Available from: https://doi.org/10.1109/SBMicro60499.2023.10302644
Artigo de periodico
Back gate bias influence on BESOI ISFET sensitivity (2023)
Duarte, Pedro Henrique; Rangel, Ricardo Cardoso; Ramos, Daniel Augusto; Yojo, Leonardo Shimizu; Sasaki, Kátia Regina Akemi ; Agopian, Paula Ghedini Der ; Martino, João Antonio
Fonte: ECS Transactions. Unidade: EP
Assuntos: ELETRODO, REFRATÁRIOS, METALOGRAFIA
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ABNT
DUARTE, Pedro Henrique et al. Back gate bias influence on BESOI ISFET sensitivity. ECS Transactions, v. 111, n. 1, p. 279-284, 2023Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1149/11101.0279ecst. Acesso em: 24 nov. 2025.
APA
Duarte, P. H., Rangel, R. C., Ramos, D. A., Yojo, L. S., Sasaki, K. R. A., Agopian, P. G. D., & Martino, J. A. (2023). Back gate bias influence on BESOI ISFET sensitivity. ECS Transactions, 111( 1), 279-284. doi:10.1149/11101.0279ecst
NLM
Duarte PH, Rangel RC, Ramos DA, Yojo LS, Sasaki KRA, Agopian PGD, Martino JA. Back gate bias influence on BESOI ISFET sensitivity [Internet]. ECS Transactions. 2023 ; 111( 1): 279-284.[citado 2025 nov. 24 ] Available from: https://doi.org/10.1149/11101.0279ecst
Vancouver
Duarte PH, Rangel RC, Ramos DA, Yojo LS, Sasaki KRA, Agopian PGD, Martino JA. Back gate bias influence on BESOI ISFET sensitivity [Internet]. ECS Transactions. 2023 ; 111( 1): 279-284.[citado 2025 nov. 24 ] Available from: https://doi.org/10.1149/11101.0279ecst
Trabalho de evento
Fabrication and electrical characterization of ISFET for H2O2 sensing (2022)
Duarte, Pedro Henrique; Rangel, Ricardo Cardoso; Ramos, Daniel Augusto; Yojo, Leonardo Shimizu; Mori, Carlos Augusto Bergfeld; Sasaki, Kátia Regina Akemi ; Agopian, Paula Ghedini Der ; Martino, João Antonio
Fonte: SBMICRO. Nome do evento: Symposium on Microelectronics Technology. Unidade: EP
Assuntos: TRANSISTORES, PERÓXIDO DE HIDROGÊNIO
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DUARTE, Pedro Henrique et al. Fabrication and electrical characterization of ISFET for H2O2 sensing. 2022, Anais.. Piscataway: IEEE, 2022. p. 1-4. Disponível em: https://doi.org/10.1109/SBMICRO55822.2022.9881031. Acesso em: 24 nov. 2025.
APA
Duarte, P. H., Rangel, R. C., Ramos, D. A., Yojo, L. S., Mori, C. A. B., Sasaki, K. R. A., et al. (2022). Fabrication and electrical characterization of ISFET for H2O2 sensing. In SBMICRO (p. 1-4). Piscataway: IEEE. doi:10.1109/SBMICRO55822.2022.9881031
NLM
Duarte PH, Rangel RC, Ramos DA, Yojo LS, Mori CAB, Sasaki KRA, Agopian PGD, Martino JA. Fabrication and electrical characterization of ISFET for H2O2 sensing [Internet]. SBMICRO. 2022 ; 1-4.[citado 2025 nov. 24 ] Available from: https://doi.org/10.1109/SBMICRO55822.2022.9881031
Vancouver
Duarte PH, Rangel RC, Ramos DA, Yojo LS, Mori CAB, Sasaki KRA, Agopian PGD, Martino JA. Fabrication and electrical characterization of ISFET for H2O2 sensing [Internet]. SBMICRO. 2022 ; 1-4.[citado 2025 nov. 24 ] Available from: https://doi.org/10.1109/SBMICRO55822.2022.9881031

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