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Dissertação (Mestrado)
Projeto de um conversor analógico-digital para um receptor UWB aplicado na detecção de câncer de mama em tecnologia CMOS (2021)
Reyes Gonzalez, David Alejandro; Van Noije, Wilhelmus Adrianus Maria (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: CONVERSORES ELÉTRICOS, CIRCUITOS INTEGRADOS, NEOPLASIAS, MAMA, MICROELETRÔNICA
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ABNT
REYES GONZALEZ, David Alejandro. Projeto de um conversor analógico-digital para um receptor UWB aplicado na detecção de câncer de mama em tecnologia CMOS. 2021. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2021. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-16032023-082709/. Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Reyes Gonzalez, D. A. (2021). Projeto de um conversor analógico-digital para um receptor UWB aplicado na detecção de câncer de mama em tecnologia CMOS (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-16032023-082709/
NLM
Reyes Gonzalez DA. Projeto de um conversor analógico-digital para um receptor UWB aplicado na detecção de câncer de mama em tecnologia CMOS [Internet]. 2021 ;[citado 2025 nov. 15 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-16032023-082709/
Vancouver
Reyes Gonzalez DA. Projeto de um conversor analógico-digital para um receptor UWB aplicado na detecção de câncer de mama em tecnologia CMOS [Internet]. 2021 ;[citado 2025 nov. 15 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-16032023-082709/
Artigo de periodico
A low-power 10-bit 0.01-to-12-MS/s asynchronous SAR ADC in 65-nm CMOS (2021)
Campos, Arthur Lombardi; Soares Junior, João Navarro ; Luppe, Maximiliam ; Lima, Eduardo Rodrigues de
Source: Analog Integrated Circuits and Signal Processing. Unidade: EESC
Subjects: CONSUMO DE ENERGIA ELÉTRICA, CIRCUITOS INTEGRADOS, CONVERSORES ELÉTRICOS, ENGENHARIA ELÉTRICA
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ABNT
CAMPOS, Arthur Lombardi et al. A low-power 10-bit 0.01-to-12-MS/s asynchronous SAR ADC in 65-nm CMOS. Analog Integrated Circuits and Signal Processing, v. 106, p. 321-337, 2021Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1007/s10470-020-01742-6. Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Campos, A. L., Soares Junior, J. N., Luppe, M., & Lima, E. R. de. (2021). A low-power 10-bit 0.01-to-12-MS/s asynchronous SAR ADC in 65-nm CMOS. Analog Integrated Circuits and Signal Processing, 106, 321-337. doi:10.1007/s10470-020-01742-6
NLM
Campos AL, Soares Junior JN, Luppe M, Lima ER de. A low-power 10-bit 0.01-to-12-MS/s asynchronous SAR ADC in 65-nm CMOS [Internet]. Analog Integrated Circuits and Signal Processing. 2021 ; 106 321-337.[citado 2025 nov. 15 ] Available from: https://doi.org/10.1007/s10470-020-01742-6
Vancouver
Campos AL, Soares Junior JN, Luppe M, Lima ER de. A low-power 10-bit 0.01-to-12-MS/s asynchronous SAR ADC in 65-nm CMOS [Internet]. Analog Integrated Circuits and Signal Processing. 2021 ; 106 321-337.[citado 2025 nov. 15 ] Available from: https://doi.org/10.1007/s10470-020-01742-6
Trabalho de evento-resumo
High aspect ratio silicon microchannel definition via ICP plasma etching using SF6/Ar as gas mixture (2021)
Alvarez, H. S.; Cioldim, F. H.; Silva, A. R.; Diniz, J. A.
Source: Abstracts. Conference titles: Workshop on Semiconductors and Micro and Nano Technology - SEMINATEC. Unidade: EESC
Subjects: TRANSFERÊNCIA DE CALOR, CIRCUITOS INTEGRADOS, MICROELETRÔNICA, ENGENHARIA MECÂNICA
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ABNT
ALVAREZ, H. S. et al. High aspect ratio silicon microchannel definition via ICP plasma etching using SF6/Ar as gas mixture. 2021, Anais.. São Paulo, SP: SBMicro, 2021. Disponível em: https://repositorio.usp.br/directbitstream/af37cdf0-62e5-4e55-90a1-799f83a30bb5/PROD_26257_SYSNO_3153042.pdf. Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Alvarez, H. S., Cioldim, F. H., Silva, A. R., & Diniz, J. A. (2021). High aspect ratio silicon microchannel definition via ICP plasma etching using SF6/Ar as gas mixture. In Abstracts. São Paulo, SP: SBMicro. Recuperado de https://repositorio.usp.br/directbitstream/af37cdf0-62e5-4e55-90a1-799f83a30bb5/PROD_26257_SYSNO_3153042.pdf
NLM
Alvarez HS, Cioldim FH, Silva AR, Diniz JA. High aspect ratio silicon microchannel definition via ICP plasma etching using SF6/Ar as gas mixture [Internet]. Abstracts. 2021 ;[citado 2025 nov. 15 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/af37cdf0-62e5-4e55-90a1-799f83a30bb5/PROD_26257_SYSNO_3153042.pdf
Vancouver
Alvarez HS, Cioldim FH, Silva AR, Diniz JA. High aspect ratio silicon microchannel definition via ICP plasma etching using SF6/Ar as gas mixture [Internet]. Abstracts. 2021 ;[citado 2025 nov. 15 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/af37cdf0-62e5-4e55-90a1-799f83a30bb5/PROD_26257_SYSNO_3153042.pdf

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