ReP USP - Resultado da busca

Tese (Doutorado)
Estudo de transistores UTBOX SOI não auto-alinhados como célula de memória (2013)
Nicoletti, Talitha; Martino, João Antonio (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: TRANSISTORES, MEMÓRIA RAM, MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
NICOLETTI, Talitha. Estudo de transistores UTBOX SOI não auto-alinhados como célula de memória. 2013. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2013. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-10072014-012728/. Acesso em: 27 nov. 2025.
APA
Nicoletti, T. (2013). Estudo de transistores UTBOX SOI não auto-alinhados como célula de memória (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-10072014-012728/
NLM
Nicoletti T. Estudo de transistores UTBOX SOI não auto-alinhados como célula de memória [Internet]. 2013 ;[citado 2025 nov. 27 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-10072014-012728/
Vancouver
Nicoletti T. Estudo de transistores UTBOX SOI não auto-alinhados como célula de memória [Internet]. 2013 ;[citado 2025 nov. 27 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-10072014-012728/
Artigo de periodico
On the Variability of the Front-/Back-Channel LF Noise in UTBOX SOI nMOSFETs (2013)
Santos, Sara Dereste dos; Nicoletti, Talitha; Martino, João Antonio ; Aoulaiche, Marc; Veloso, Anabela; Jurczak, Malgorzata; Simoen, Eddy ; Claeys, Cor
Source: IEEE Transactions on Electron Devices. Unidade: EP
Subjects: SILÍCIO, FILMES FINOS, AVALIAÇÃO DE DESEMPENHO, TRANSISTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SANTOS, Sara Dereste dos et al. On the Variability of the Front-/Back-Channel LF Noise in UTBOX SOI nMOSFETs. IEEE Transactions on Electron Devices, v. 60, n. 1, p. 444-450, 2013Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1109/ted.2012.2227749. Acesso em: 27 nov. 2025.
APA
Santos, S. D. dos, Nicoletti, T., Martino, J. A., Aoulaiche, M., Veloso, A., Jurczak, M., et al. (2013). On the Variability of the Front-/Back-Channel LF Noise in UTBOX SOI nMOSFETs. IEEE Transactions on Electron Devices, 60( 1), 444-450. doi:10.1109/ted.2012.2227749
NLM
Santos SD dos, Nicoletti T, Martino JA, Aoulaiche M, Veloso A, Jurczak M, Simoen E, Claeys C. On the Variability of the Front-/Back-Channel LF Noise in UTBOX SOI nMOSFETs [Internet]. IEEE Transactions on Electron Devices. 2013 ; 60( 1): 444-450.[citado 2025 nov. 27 ] Available from: https://doi.org/10.1109/ted.2012.2227749
Vancouver
Santos SD dos, Nicoletti T, Martino JA, Aoulaiche M, Veloso A, Jurczak M, Simoen E, Claeys C. On the Variability of the Front-/Back-Channel LF Noise in UTBOX SOI nMOSFETs [Internet]. IEEE Transactions on Electron Devices. 2013 ; 60( 1): 444-450.[citado 2025 nov. 27 ] Available from: https://doi.org/10.1109/ted.2012.2227749
Trabalho de evento
Experimental and Simulation of 1T-DRAM Trend with the Gate Length on UTBOX Devices (2013)
Martino, João Antonio ; Nicoletti, Talitha; Sasaki, Katia Regina Akemi; Aoulaiche, Marc; Simoen, Eddy ; Claeys, Cor
Source: EUROSOI 2013. Conference titles: European Workshop on Silicon on Insulator Technology, Devices and Circuits. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA (CONGRESSOS)
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MARTINO, João Antonio et al. Experimental and Simulation of 1T-DRAM Trend with the Gate Length on UTBOX Devices. 2013, Anais.. Paris: Institut Superieur d'Électronique, 2013. . Acesso em: 27 nov. 2025.
APA
Martino, J. A., Nicoletti, T., Sasaki, K. R. A., Aoulaiche, M., Simoen, E., & Claeys, C. (2013). Experimental and Simulation of 1T-DRAM Trend with the Gate Length on UTBOX Devices. In EUROSOI 2013. Paris: Institut Superieur d'Électronique.
NLM
Martino JA, Nicoletti T, Sasaki KRA, Aoulaiche M, Simoen E, Claeys C. Experimental and Simulation of 1T-DRAM Trend with the Gate Length on UTBOX Devices. EUROSOI 2013. 2013 ;[citado 2025 nov. 27 ]
Vancouver
Martino JA, Nicoletti T, Sasaki KRA, Aoulaiche M, Simoen E, Claeys C. Experimental and Simulation of 1T-DRAM Trend with the Gate Length on UTBOX Devices. EUROSOI 2013. 2013 ;[citado 2025 nov. 27 ]
Trabalho de evento
Spacer length and tilt implantation influence on scaled UTBOX FD MOSFETS (2012)
Santos, Sara Dereste dos ; Nicoletti, Talitha; Aoulaiche, Marc; Martino, João Antonio ; Veloso, A; Jurczak, Malgorzata; Simoen, Eddy ; Claeys, Cor
Source: Microelectronics technology and devices, SBMicro. Conference titles: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SANTOS, Sara Dereste dos et al. Spacer length and tilt implantation influence on scaled UTBOX FD MOSFETS. 2012, Anais.. Pennington: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo, 2012. Disponível em: https://repositorio.usp.br/directbitstream/22d2dffe-4364-4c9f-87ae-bbce2402e1e6/3144801.pdf. Acesso em: 27 nov. 2025.
APA
Santos, S. D. dos, Nicoletti, T., Aoulaiche, M., Martino, J. A., Veloso, A., Jurczak, M., et al. (2012). Spacer length and tilt implantation influence on scaled UTBOX FD MOSFETS. In Microelectronics technology and devices, SBMicro. Pennington: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo. Recuperado de https://repositorio.usp.br/directbitstream/22d2dffe-4364-4c9f-87ae-bbce2402e1e6/3144801.pdf
NLM
Santos SD dos, Nicoletti T, Aoulaiche M, Martino JA, Veloso A, Jurczak M, Simoen E, Claeys C. Spacer length and tilt implantation influence on scaled UTBOX FD MOSFETS [Internet]. Microelectronics technology and devices, SBMicro. 2012 ;[citado 2025 nov. 27 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/22d2dffe-4364-4c9f-87ae-bbce2402e1e6/3144801.pdf
Vancouver
Santos SD dos, Nicoletti T, Aoulaiche M, Martino JA, Veloso A, Jurczak M, Simoen E, Claeys C. Spacer length and tilt implantation influence on scaled UTBOX FD MOSFETS [Internet]. Microelectronics technology and devices, SBMicro. 2012 ;[citado 2025 nov. 27 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/22d2dffe-4364-4c9f-87ae-bbce2402e1e6/3144801.pdf
Artigo de periodico
DIBL behavior of triple gate FinFETs with SEG on biaxial strained devices (2010)
Santos, Sara Dereste dos ; Nicoletti, Talitha; Martino, João Antonio ; Simoen, Eddy ; Claeys, Cor
Source: Microelectronics Technology and Devices - SBMicro 2010. Unidade: EP
Assunto: DISPOSITIVOS ELETRÔNICOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SANTOS, Sara Dereste dos et al. DIBL behavior of triple gate FinFETs with SEG on biaxial strained devices. Microelectronics Technology and Devices - SBMicro 2010, v. 31, n. 1, p. 51-58, 2010Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1149/1.3474141. Acesso em: 27 nov. 2025.
APA
Santos, S. D. dos, Nicoletti, T., Martino, J. A., Simoen, E., & Claeys, C. (2010). DIBL behavior of triple gate FinFETs with SEG on biaxial strained devices. Microelectronics Technology and Devices - SBMicro 2010, 31( 1), 51-58. doi:10.1149/1.3474141
NLM
Santos SD dos, Nicoletti T, Martino JA, Simoen E, Claeys C. DIBL behavior of triple gate FinFETs with SEG on biaxial strained devices [Internet]. Microelectronics Technology and Devices - SBMicro 2010. 2010 ;31( 1): 51-58.[citado 2025 nov. 27 ] Available from: https://doi.org/10.1149/1.3474141
Vancouver
Santos SD dos, Nicoletti T, Martino JA, Simoen E, Claeys C. DIBL behavior of triple gate FinFETs with SEG on biaxial strained devices [Internet]. Microelectronics Technology and Devices - SBMicro 2010. 2010 ;31( 1): 51-58.[citado 2025 nov. 27 ] Available from: https://doi.org/10.1149/1.3474141
Dissertação (Mestrado)
Estudo da resistência série de fonte e dreno de transistores SOI FinFETs de porta tripla e com canal tensionado (2009)
Nicoletti, Talitha; Martino, João Antonio (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: TRANSISTORES, CIRCUITOS INTEGRADOS MOS, MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
NICOLETTI, Talitha. Estudo da resistência série de fonte e dreno de transistores SOI FinFETs de porta tripla e com canal tensionado. 2009. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2009. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-22042010-152153/. Acesso em: 27 nov. 2025.
APA
Nicoletti, T. (2009). Estudo da resistência série de fonte e dreno de transistores SOI FinFETs de porta tripla e com canal tensionado (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-22042010-152153/
NLM
Nicoletti T. Estudo da resistência série de fonte e dreno de transistores SOI FinFETs de porta tripla e com canal tensionado [Internet]. 2009 ;[citado 2025 nov. 27 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-22042010-152153/
Vancouver
Nicoletti T. Estudo da resistência série de fonte e dreno de transistores SOI FinFETs de porta tripla e com canal tensionado [Internet]. 2009 ;[citado 2025 nov. 27 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-22042010-152153/

USP Schools

ReP

Filtros

Authors

Subjects