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Artigo de periodico
Aplicação do método Seis Sigma ao processo de refusão na tecnologia de montagem em superfície (SMT - "Surface Mount Technology") (2005)
Bueno, Ana Carolina; Oka, Mauricio Massazumi
Fonte: Boletim Técnico da Escola Politécnica da USP. Departamento de Engenharia de Sistemas Eletrônicos. Unidade: EP
Assuntos: SOLDAGEM, CONTROLE DA QUALIDADE
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ABNT
BUENO, Ana Carolina e OKA, Mauricio Massazumi. Aplicação do método Seis Sigma ao processo de refusão na tecnologia de montagem em superfície (SMT - "Surface Mount Technology"). Boletim Técnico da Escola Politécnica da USP. Departamento de Engenharia de Sistemas Eletrônicos, n. 01, 2005Tradução . . Disponível em: https://repositorio.usp.br/directbitstream/d07fd954-8a3b-4d40-89f7-b6f4d3c3ed54/BT-PSI-05_01_250925_150409.pdf. Acesso em: 27 nov. 2025.
APA
Bueno, A. C., & Oka, M. M. (2005). Aplicação do método Seis Sigma ao processo de refusão na tecnologia de montagem em superfície (SMT - "Surface Mount Technology"). Boletim Técnico da Escola Politécnica da USP. Departamento de Engenharia de Sistemas Eletrônicos, (01). Recuperado de https://repositorio.usp.br/directbitstream/d07fd954-8a3b-4d40-89f7-b6f4d3c3ed54/BT-PSI-05_01_250925_150409.pdf
NLM
Bueno AC, Oka MM. Aplicação do método Seis Sigma ao processo de refusão na tecnologia de montagem em superfície (SMT - "Surface Mount Technology") [Internet]. Boletim Técnico da Escola Politécnica da USP. Departamento de Engenharia de Sistemas Eletrônicos. 2005 ;(01):[citado 2025 nov. 27 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/d07fd954-8a3b-4d40-89f7-b6f4d3c3ed54/BT-PSI-05_01_250925_150409.pdf
Vancouver
Bueno AC, Oka MM. Aplicação do método Seis Sigma ao processo de refusão na tecnologia de montagem em superfície (SMT - "Surface Mount Technology") [Internet]. Boletim Técnico da Escola Politécnica da USP. Departamento de Engenharia de Sistemas Eletrônicos. 2005 ;(01):[citado 2025 nov. 27 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/d07fd954-8a3b-4d40-89f7-b6f4d3c3ed54/BT-PSI-05_01_250925_150409.pdf
Parte de monografia/livro
Six sigma method applied for reflow soldering process in SMT (surface Mount Technology) (2003)
Bueno, Ana Carolina ; Shiki, Maira Paulilo; Lima, Valdemir Ronaldo de; Brandão, Luis Gustavo L.; Oka, Mauricio Massazumi
Fonte: Microelectronic technology and devices SBMicro 2003. Nome do evento: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
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ABNT
BUENO, Ana Carolina et al. Six sigma method applied for reflow soldering process in SMT (surface Mount Technology). Microelectronic technology and devices SBMicro 2003. Tradução . Pennington: Electrochemical Society, 2003. . . Acesso em: 27 nov. 2025.
APA
Bueno, A. C., Shiki, M. P., Lima, V. R. de, Brandão, L. G. L., & Oka, M. M. (2003). Six sigma method applied for reflow soldering process in SMT (surface Mount Technology). In Microelectronic technology and devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society.
NLM
Bueno AC, Shiki MP, Lima VR de, Brandão LGL, Oka MM. Six sigma method applied for reflow soldering process in SMT (surface Mount Technology). In: Microelectronic technology and devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society; 2003. [citado 2025 nov. 27 ]
Vancouver
Bueno AC, Shiki MP, Lima VR de, Brandão LGL, Oka MM. Six sigma method applied for reflow soldering process in SMT (surface Mount Technology). In: Microelectronic technology and devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society; 2003. [citado 2025 nov. 27 ]
Parte de monografia/livro
Effect of stencil alignment on the solder beading in SMT process (2002)
Silva, Flávio Sousa; Oka, Mauricio Massazumi
Fonte: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Nome do evento: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002, Porto Alegre, 2002. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
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ABNT
SILVA, Flávio Sousa e OKA, Mauricio Massazumi. Effect of stencil alignment on the solder beading in SMT process. Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Tradução . Pennington: The Electrochemical Society, 2002. . . Acesso em: 27 nov. 2025.
APA
Silva, F. S., & Oka, M. M. (2002). Effect of stencil alignment on the solder beading in SMT process. In Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society.
NLM
Silva FS, Oka MM. Effect of stencil alignment on the solder beading in SMT process. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society; 2002. [citado 2025 nov. 27 ]
Vancouver
Silva FS, Oka MM. Effect of stencil alignment on the solder beading in SMT process. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society; 2002. [citado 2025 nov. 27 ]
Trabalho de evento
Formation of very low leakage current pn junction by low temperature annealing assisted by Xe-lamp irradiation. (em CD-Rom) (1997)
Oka, Mauricio Massazumi; Nakada, A; Tamai, Y; Shibata, T; Ohmi, T
Fonte: Proceedings. Nome do evento: Conference of the Brazilian Microelectronics Society. Unidade: EP
Assuntos: CIRCUITOS INTEGRADOS, SEMICONDUTORES
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ABNT
OKA, Mauricio Massazumi et al. Formation of very low leakage current pn junction by low temperature annealing assisted by Xe-lamp irradiation. (em CD-Rom). 1997, Anais.. Itajubá: SBMICRO/EFEI, 1997. . Acesso em: 27 nov. 2025.
APA
Oka, M. M., Nakada, A., Tamai, Y., Shibata, T., & Ohmi, T. (1997). Formation of very low leakage current pn junction by low temperature annealing assisted by Xe-lamp irradiation. (em CD-Rom). In Proceedings. Itajubá: SBMICRO/EFEI.
NLM
Oka MM, Nakada A, Tamai Y, Shibata T, Ohmi T. Formation of very low leakage current pn junction by low temperature annealing assisted by Xe-lamp irradiation. (em CD-Rom). Proceedings. 1997 ;[citado 2025 nov. 27 ]
Vancouver
Oka MM, Nakada A, Tamai Y, Shibata T, Ohmi T. Formation of very low leakage current pn junction by low temperature annealing assisted by Xe-lamp irradiation. (em CD-Rom). Proceedings. 1997 ;[citado 2025 nov. 27 ]
Trabalho de evento
Silicetos de titanio e de cobalto como fonte de arsenio (1993)
Oka, Mauricio Massazumi; Furlan, Rogério
Fonte: Anais. Nome do evento: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
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ABNT
OKA, Mauricio Massazumi e FURLAN, Rogério. Silicetos de titanio e de cobalto como fonte de arsenio. 1993, Anais.. Campinas: Sbmicro, 1993. . Acesso em: 27 nov. 2025.
APA
Oka, M. M., & Furlan, R. (1993). Silicetos de titanio e de cobalto como fonte de arsenio. In Anais. Campinas: Sbmicro.
NLM
Oka MM, Furlan R. Silicetos de titanio e de cobalto como fonte de arsenio. Anais. 1993 ;[citado 2025 nov. 27 ]
Vancouver
Oka MM, Furlan R. Silicetos de titanio e de cobalto como fonte de arsenio. Anais. 1993 ;[citado 2025 nov. 27 ]
Trabalho de evento
Difusao de 'AS' a partir do 'TI''SI IND.2' com estruturas c49 e c54 (1992)
Oka, Mauricio Massazumi; Furlan, Rogério
Fonte: Anais. Nome do evento: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
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ABNT
OKA, Mauricio Massazumi e FURLAN, Rogério. Difusao de 'AS' a partir do 'TI''SI IND.2' com estruturas c49 e c54. 1992, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 27 nov. 2025.
APA
Oka, M. M., & Furlan, R. (1992). Difusao de 'AS' a partir do 'TI''SI IND.2' com estruturas c49 e c54. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Oka MM, Furlan R. Difusao de 'AS' a partir do 'TI''SI IND.2' com estruturas c49 e c54. Anais. 1992 ;[citado 2025 nov. 27 ]
Vancouver
Oka MM, Furlan R. Difusao de 'AS' a partir do 'TI''SI IND.2' com estruturas c49 e c54. Anais. 1992 ;[citado 2025 nov. 27 ]
Trabalho de evento
Estudo do crescimento lateral do siliceto de 'CO' formado por rtr (recozimento termico rapido) (1991)
Oka, Mauricio Massazumi; Swart, Jacobus Willibrordus
Fonte: Anais. Nome do evento: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
OKA, Mauricio Massazumi e SWART, Jacobus Willibrordus. Estudo do crescimento lateral do siliceto de 'CO' formado por rtr (recozimento termico rapido). 1991, Anais.. Belo Horizonte: Sbmicro/Ufmg, 1991. . Acesso em: 27 nov. 2025.
APA
Oka, M. M., & Swart, J. W. (1991). Estudo do crescimento lateral do siliceto de 'CO' formado por rtr (recozimento termico rapido). In Anais. Belo Horizonte: Sbmicro/Ufmg.
NLM
Oka MM, Swart JW. Estudo do crescimento lateral do siliceto de 'CO' formado por rtr (recozimento termico rapido). Anais. 1991 ;[citado 2025 nov. 27 ]
Vancouver
Oka MM, Swart JW. Estudo do crescimento lateral do siliceto de 'CO' formado por rtr (recozimento termico rapido). Anais. 1991 ;[citado 2025 nov. 27 ]
Dissertação (Mestrado)
Estudo do crescimento lateral de silicetos e formação do siliceto de cobalto sobre silício altamente dopado (1991)
Oka, Mauricio Massazumi; Swart, Jacobus Willibrordus (Orientador)
Unidade: EP
Assunto: ENGENHARIA ELÉTRICA
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ABNT
OKA, Mauricio Massazumi. Estudo do crescimento lateral de silicetos e formação do siliceto de cobalto sobre silício altamente dopado. 1991. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1991. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-08012025-084819/pt-br.php. Acesso em: 27 nov. 2025.
APA
Oka, M. M. (1991). Estudo do crescimento lateral de silicetos e formação do siliceto de cobalto sobre silício altamente dopado (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-08012025-084819/pt-br.php
NLM
Oka MM. Estudo do crescimento lateral de silicetos e formação do siliceto de cobalto sobre silício altamente dopado [Internet]. 1991 ;[citado 2025 nov. 27 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-08012025-084819/pt-br.php
Vancouver
Oka MM. Estudo do crescimento lateral de silicetos e formação do siliceto de cobalto sobre silício altamente dopado [Internet]. 1991 ;[citado 2025 nov. 27 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-08012025-084819/pt-br.php
Trabalho de evento
Experimental study of lateral growth of titanium silicide (1990)
Oka, Mauricio Massazumi; Swart, Jacobus Willibrordus
Fonte: Anais. Nome do evento: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
OKA, Mauricio Massazumi e SWART, Jacobus Willibrordus. Experimental study of lateral growth of titanium silicide. 1990, Anais.. Campinas: Sbmicro/Spie, 1990. . Acesso em: 27 nov. 2025.
APA
Oka, M. M., & Swart, J. W. (1990). Experimental study of lateral growth of titanium silicide. In Anais. Campinas: Sbmicro/Spie.
NLM
Oka MM, Swart JW. Experimental study of lateral growth of titanium silicide. Anais. 1990 ;[citado 2025 nov. 27 ]
Vancouver
Oka MM, Swart JW. Experimental study of lateral growth of titanium silicide. Anais. 1990 ;[citado 2025 nov. 27 ]

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