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Parte de monografia/livro
Electrical and physical characterization of electroless nickel films on polysilicon gate electrodes (2002)
Navia, Alan Rodrigo; Santos Filho, Sebastião Gomes dos
Fonte: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
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ABNT
NAVIA, Alan Rodrigo e SANTOS FILHO, Sebastião Gomes dos. Electrical and physical characterization of electroless nickel films on polysilicon gate electrodes. Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Tradução . Pennington: The Electrochemical Society, 2002. . . Acesso em: 03 dez. 2025.
APA
Navia, A. R., & Santos Filho, S. G. dos. (2002). Electrical and physical characterization of electroless nickel films on polysilicon gate electrodes. In Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society.
NLM
Navia AR, Santos Filho SG dos. Electrical and physical characterization of electroless nickel films on polysilicon gate electrodes. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society; 2002. [citado 2025 dez. 03 ]
Vancouver
Navia AR, Santos Filho SG dos. Electrical and physical characterization of electroless nickel films on polysilicon gate electrodes. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society; 2002. [citado 2025 dez. 03 ]
Dissertação (Mestrado)
Estudo experimental da deposição autocatalítica de níquel sobre silício policristalino ou alumínio visando a fabricação de microeletrodos e portas MOS (2002)
Navia, Alan Rodrigo; Santos Filho, Sebastião Gomes dos (Orientador)
Unidade: EP
Assuntos: ELECTROLESS, MICROELETRÔNICA, SILÍCIO, CIRCUITOS INTEGRADOS MOS
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ABNT
NAVIA, Alan Rodrigo. Estudo experimental da deposição autocatalítica de níquel sobre silício policristalino ou alumínio visando a fabricação de microeletrodos e portas MOS. 2002. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2002. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-01102024-132927/pt-br.php. Acesso em: 03 dez. 2025.
APA
Navia, A. R. (2002). Estudo experimental da deposição autocatalítica de níquel sobre silício policristalino ou alumínio visando a fabricação de microeletrodos e portas MOS (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-01102024-132927/pt-br.php
NLM
Navia AR. Estudo experimental da deposição autocatalítica de níquel sobre silício policristalino ou alumínio visando a fabricação de microeletrodos e portas MOS [Internet]. 2002 ;[citado 2025 dez. 03 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-01102024-132927/pt-br.php
Vancouver
Navia AR. Estudo experimental da deposição autocatalítica de níquel sobre silício policristalino ou alumínio visando a fabricação de microeletrodos e portas MOS [Internet]. 2002 ;[citado 2025 dez. 03 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-01102024-132927/pt-br.php
Artigo de periodico
Physical and electrical characterization of thin nickel films obtained from electroless plating onto aluminum (2001)
Marques, Angelo Eduardo Battistini; Santos Filho, Sebastião Gomes dos ; Navia, Alan Rodrigo; Sonnenberg, Victor ; Martino, João Antonio
Fonte: Physica Status Solidi. Unidade: EP
Assunto: FILMES FINOS (CARACTERÍSTICAS)
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ABNT
MARQUES, Angelo Eduardo Battistini et al. Physical and electrical characterization of thin nickel films obtained from electroless plating onto aluminum. Physica Status Solidi, v. 187, n. 1, p. 75-84, 2001Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1002/1521-396x(200109)187:1<75::aid-pssa75>3.0.co;2-q. Acesso em: 03 dez. 2025.
APA
Marques, A. E. B., Santos Filho, S. G. dos, Navia, A. R., Sonnenberg, V., & Martino, J. A. (2001). Physical and electrical characterization of thin nickel films obtained from electroless plating onto aluminum. Physica Status Solidi, 187( 1), 75-84. doi:10.1002/1521-396x(200109)187:1<75::aid-pssa75>3.0.co;2-q
NLM
Marques AEB, Santos Filho SG dos, Navia AR, Sonnenberg V, Martino JA. Physical and electrical characterization of thin nickel films obtained from electroless plating onto aluminum [Internet]. Physica Status Solidi. 2001 ; 187( 1): 75-84.[citado 2025 dez. 03 ] Available from: https://doi.org/10.1002/1521-396x(200109)187:1<75::aid-pssa75>3.0.co;2-q
Vancouver
Marques AEB, Santos Filho SG dos, Navia AR, Sonnenberg V, Martino JA. Physical and electrical characterization of thin nickel films obtained from electroless plating onto aluminum [Internet]. Physica Status Solidi. 2001 ; 187( 1): 75-84.[citado 2025 dez. 03 ] Available from: https://doi.org/10.1002/1521-396x(200109)187:1<75::aid-pssa75>3.0.co;2-q
Trabalho de evento-resumo
Electrical characterization of MOS capacitors with gate of nickel/aluminum (2001)
Navia, Alan Rodrigo; Santos Filho, Sebastião Gomes dos
Fonte: Extended Abstracts. Nome do evento: Workshop of SIBRATI. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
NAVIA, Alan Rodrigo e SANTOS FILHO, Sebastião Gomes dos. Electrical characterization of MOS capacitors with gate of nickel/aluminum. 2001, Anais.. São Paulo: EPUSP, 2001. Disponível em: http://www.lsi.usp.br/. Acesso em: 03 dez. 2025.
APA
Navia, A. R., & Santos Filho, S. G. dos. (2001). Electrical characterization of MOS capacitors with gate of nickel/aluminum. In Extended Abstracts. São Paulo: EPUSP. Recuperado de http://www.lsi.usp.br/
NLM
Navia AR, Santos Filho SG dos. Electrical characterization of MOS capacitors with gate of nickel/aluminum [Internet]. Extended Abstracts. 2001 ;[citado 2025 dez. 03 ] Available from: http://www.lsi.usp.br/
Vancouver
Navia AR, Santos Filho SG dos. Electrical characterization of MOS capacitors with gate of nickel/aluminum [Internet]. Extended Abstracts. 2001 ;[citado 2025 dez. 03 ] Available from: http://www.lsi.usp.br/
Trabalho de evento
Electrical characterization of thin nickel films obtained from electroless plating onto aluminum gate of MOS capacitors (2000)
Navia, Alan Rodrigo; Sonnenberg, Victor ; Marques, Angelo Eduardo Battistini; Santos Filho, Sebastião Gomes dos ; Martino, João Antonio
Fonte: SBMicro 2000 : proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
NAVIA, Alan Rodrigo et al. Electrical characterization of thin nickel films obtained from electroless plating onto aluminum gate of MOS capacitors. 2000, Anais.. Manaus: SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP, 2000. . Acesso em: 03 dez. 2025.
APA
Navia, A. R., Sonnenberg, V., Marques, A. E. B., Santos Filho, S. G. dos, & Martino, J. A. (2000). Electrical characterization of thin nickel films obtained from electroless plating onto aluminum gate of MOS capacitors. In SBMicro 2000 : proceedings. Manaus: SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP.
NLM
Navia AR, Sonnenberg V, Marques AEB, Santos Filho SG dos, Martino JA. Electrical characterization of thin nickel films obtained from electroless plating onto aluminum gate of MOS capacitors. SBMicro 2000 : proceedings. 2000 ;[citado 2025 dez. 03 ]
Vancouver
Navia AR, Sonnenberg V, Marques AEB, Santos Filho SG dos, Martino JA. Electrical characterization of thin nickel films obtained from electroless plating onto aluminum gate of MOS capacitors. SBMicro 2000 : proceedings. 2000 ;[citado 2025 dez. 03 ]

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