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Artigo de periodico
Ion beam analysis of a-C: H films on alloy steel substrate (2013)
Silva, Tiago Fiorini da ; Santos, R. J.; Santana, P. L.; Bortoleto, J. R. R.; Moro, Marcos Vinicius ; Trindade, Gustavo Ferraz ; Added, Nemitala ; Tabacniks, Manfredo Harri
Source: THIN SOLID FILMS. Unidade: IF
Subjects: ÍONS, PLASMA
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ABNT
SILVA, Tiago Fiorini da et al. Ion beam analysis of a-C: H films on alloy steel substrate. THIN SOLID FILMS, v. 545, p. 171-175, 2013Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2013.07.073. Acesso em: 12 jun. 2024.
APA
Silva, T. F. da, Santos, R. J., Santana, P. L., Bortoleto, J. R. R., Moro, M. V., Trindade, G. F., et al. (2013). Ion beam analysis of a-C: H films on alloy steel substrate. THIN SOLID FILMS, 545, 171-175. doi:10.1016/j.tsf.2013.07.073
NLM
Silva TF da, Santos RJ, Santana PL, Bortoleto JRR, Moro MV, Trindade GF, Added N, Tabacniks MH. Ion beam analysis of a-C: H films on alloy steel substrate [Internet]. THIN SOLID FILMS. 2013 ; 545 171-175.[citado 2024 jun. 12 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2013.07.073
Vancouver
Silva TF da, Santos RJ, Santana PL, Bortoleto JRR, Moro MV, Trindade GF, Added N, Tabacniks MH. Ion beam analysis of a-C: H films on alloy steel substrate [Internet]. THIN SOLID FILMS. 2013 ; 545 171-175.[citado 2024 jun. 12 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2013.07.073
Artigo de periodico
Electronic structure of 'Li IND.X''NiO IND.Y' thin films (2001)
Urbano, A; Castro, S C de; Morais, J; Siervo, A D; Gorenstein, A; Tabacniks, Manfredo Harri ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu
Source: Journal of Power Sources. Unidade: IF
Assunto: ENGENHARIA MECÂNICA
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ABNT
URBANO, A et al. Electronic structure of 'Li IND.X''NiO IND.Y' thin films. Journal of Power Sources, v. 97-98, p. 328-331, 2001Tradução . . Disponível em: http://e5500.fapesp.br/cgi-bin/sciserv.pl?collection=journals&journal=03787753&issue=v97-98inone&article=328_esoltf&form=pdf&file=file.pdf. Acesso em: 12 jun. 2024.
APA
Urbano, A., Castro, S. C. de, Morais, J., Siervo, A. D., Gorenstein, A., Tabacniks, M. H., & Fantini, M. C. de A. (2001). Electronic structure of 'Li IND.X''NiO IND.Y' thin films. Journal of Power Sources, 97-98, 328-331. Recuperado de http://e5500.fapesp.br/cgi-bin/sciserv.pl?collection=journals&journal=03787753&issue=v97-98inone&article=328_esoltf&form=pdf&file=file.pdf
NLM
Urbano A, Castro SC de, Morais J, Siervo AD, Gorenstein A, Tabacniks MH, Fantini MC de A. Electronic structure of 'Li IND.X''NiO IND.Y' thin films [Internet]. Journal of Power Sources. 2001 ; 97-98 328-331.[citado 2024 jun. 12 ] Available from: http://e5500.fapesp.br/cgi-bin/sciserv.pl?collection=journals&journal=03787753&issue=v97-98inone&article=328_esoltf&form=pdf&file=file.pdf
Vancouver
Urbano A, Castro SC de, Morais J, Siervo AD, Gorenstein A, Tabacniks MH, Fantini MC de A. Electronic structure of 'Li IND.X''NiO IND.Y' thin films [Internet]. Journal of Power Sources. 2001 ; 97-98 328-331.[citado 2024 jun. 12 ] Available from: http://e5500.fapesp.br/cgi-bin/sciserv.pl?collection=journals&journal=03787753&issue=v97-98inone&article=328_esoltf&form=pdf&file=file.pdf
Artigo de periodico
Thin films of a-'Si IND.1-X''C IND.X':H deposited by PECVD: the r.f. power and 'H IND.2' dilution role (2000)
Prado, Rogerio Junqueira; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Tabacniks, Manfredo Harri ; Pereyra, Inés ; Flank, A M
Source: Materials Science Forum. Unidades: IF, EP
Assunto: SEMICONDUTORES
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ABNT
PRADO, Rogerio Junqueira et al. Thin films of a-'Si IND.1-X''C IND.X':H deposited by PECVD: the r.f. power and 'H IND.2' dilution role. Materials Science Forum, v. 338-342, n. 1, p. 329-332, 2000Tradução . . Acesso em: 12 jun. 2024.
APA
Prado, R. J., Fantini, M. C. de A., Tabacniks, M. H., Pereyra, I., & Flank, A. M. (2000). Thin films of a-'Si IND.1-X''C IND.X':H deposited by PECVD: the r.f. power and 'H IND.2' dilution role. Materials Science Forum, 338-342( 1), 329-332.
NLM
Prado RJ, Fantini MC de A, Tabacniks MH, Pereyra I, Flank AM. Thin films of a-'Si IND.1-X''C IND.X':H deposited by PECVD: the r.f. power and 'H IND.2' dilution role. Materials Science Forum. 2000 ; 338-342( 1): 329-332.[citado 2024 jun. 12 ]
Vancouver
Prado RJ, Fantini MC de A, Tabacniks MH, Pereyra I, Flank AM. Thin films of a-'Si IND.1-X''C IND.X':H deposited by PECVD: the r.f. power and 'H IND.2' dilution role. Materials Science Forum. 2000 ; 338-342( 1): 329-332.[citado 2024 jun. 12 ]

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