Fonte: Resumos. Nome do evento: Encontro Nacional de Física da Matéria Condensada. Unidade: IF
Assuntos: SUPERCONDUTIVIDADE, FILMES FINOS, ESPECTROSCOPIA INFRAVERMELHA
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ABNT
MAMANI, Wilmer Alexe Sucasaire et al. Formação e caracterização de filmes de nitreto de silício preparados por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente. 2001, Anais.. São Paulo: SBF, 2001. . Acesso em: 11 jun. 2024.APA
Mamani, W. A. S., Matsuoka, M., Watanabe, S., & Zambom, L. da S. (2001). Formação e caracterização de filmes de nitreto de silício preparados por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente. In Resumos. São Paulo: SBF.NLM
Mamani WAS, Matsuoka M, Watanabe S, Zambom L da S. Formação e caracterização de filmes de nitreto de silício preparados por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente. Resumos. 2001 ;[citado 2024 jun. 11 ]Vancouver
Mamani WAS, Matsuoka M, Watanabe S, Zambom L da S. Formação e caracterização de filmes de nitreto de silício preparados por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente. Resumos. 2001 ;[citado 2024 jun. 11 ]