ReP USP - Resultado da busca

Tese (Doutorado)
Desenvolvimento de um sistema de caracterização de emissores de elétrons baseado no mapeamento de corrente por imagem (2018)
Kopelvski, Maycon Max ; Galeazzo, Elisabete (Orientador)
Unidade: EP
Assuntos: INSTRUMENTAÇÃO VIRTUAL, ELÉTRONS, PROCESSAMENTO DE IMAGENS, PROCESSAMENTO DE SINAIS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
KOPELVSKI, Maycon Max. Desenvolvimento de um sistema de caracterização de emissores de elétrons baseado no mapeamento de corrente por imagem. 2018. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2018. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-12122018-152930/. Acesso em: 19 jun. 2024.
APA
Kopelvski, M. M. (2018). Desenvolvimento de um sistema de caracterização de emissores de elétrons baseado no mapeamento de corrente por imagem (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-12122018-152930/
NLM
Kopelvski MM. Desenvolvimento de um sistema de caracterização de emissores de elétrons baseado no mapeamento de corrente por imagem [Internet]. 2018 ;[citado 2024 jun. 19 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-12122018-152930/
Vancouver
Kopelvski MM. Desenvolvimento de um sistema de caracterização de emissores de elétrons baseado no mapeamento de corrente por imagem [Internet]. 2018 ;[citado 2024 jun. 19 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-12122018-152930/
Trabalho de evento
Avaliação da Implantação de Laboratório de Circuitos Elétricos no âmbito da nova estrutura curricular da Escola Politécnica (2016)
Yoshioka, Leopoldo Rideki ; Galeazzo, Elisabete ; Nascimento, Vítor Heloiz
Fonte: Anais. Nome do evento: Congresso de Graduação da Universidade de São Paulo. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS ELÉTRICOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
YOSHIOKA, Leopoldo Rideki e GALEAZZO, Elisabete e NASCIMENTO, Vítor Heloiz. Avaliação da Implantação de Laboratório de Circuitos Elétricos no âmbito da nova estrutura curricular da Escola Politécnica. 2016, Anais.. São Paulo: Pró-Reitoria de Graduação da Universidade de São Paulo, 2016. Disponível em: http://www.congressograduacao.usp.br. Acesso em: 19 jun. 2024.
APA
Yoshioka, L. R., Galeazzo, E., & Nascimento, V. H. (2016). Avaliação da Implantação de Laboratório de Circuitos Elétricos no âmbito da nova estrutura curricular da Escola Politécnica. In Anais. São Paulo: Pró-Reitoria de Graduação da Universidade de São Paulo. Recuperado de http://www.congressograduacao.usp.br
NLM
Yoshioka LR, Galeazzo E, Nascimento VH. Avaliação da Implantação de Laboratório de Circuitos Elétricos no âmbito da nova estrutura curricular da Escola Politécnica [Internet]. Anais. 2016 ;[citado 2024 jun. 19 ] Available from: http://www.congressograduacao.usp.br
Vancouver
Yoshioka LR, Galeazzo E, Nascimento VH. Avaliação da Implantação de Laboratório de Circuitos Elétricos no âmbito da nova estrutura curricular da Escola Politécnica [Internet]. Anais. 2016 ;[citado 2024 jun. 19 ] Available from: http://www.congressograduacao.usp.br
Dissertação (Mestrado)
Reconhecimento de movimentos humanos utilizando um acelerômetro e inteligência computacional (2013)
Silva, Fernando Ginez da; Galeazzo, Elisabete (Orientador)
Unidade: EP
Assuntos: RECONHECIMENTO DE PADRÕES, PROCESSAMENTO DIGITAL DE SINAIS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SILVA, Fernando Ginez da. Reconhecimento de movimentos humanos utilizando um acelerômetro e inteligência computacional. 2013. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2013. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-22092014-103901/. Acesso em: 19 jun. 2024.
APA
Silva, F. G. da. (2013). Reconhecimento de movimentos humanos utilizando um acelerômetro e inteligência computacional (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-22092014-103901/
NLM
Silva FG da. Reconhecimento de movimentos humanos utilizando um acelerômetro e inteligência computacional [Internet]. 2013 ;[citado 2024 jun. 19 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-22092014-103901/
Vancouver
Silva FG da. Reconhecimento de movimentos humanos utilizando um acelerômetro e inteligência computacional [Internet]. 2013 ;[citado 2024 jun. 19 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-22092014-103901/
Trabalho de evento
Novel Si field emission devices fabrication method based on HI-PS technique for gas sensors development (2008)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Kopelvski, Maycon Max ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Fonte: Proceedings. Nome do evento: International Meeting on Chemical Sensors. Unidade: EP
Assunto: SENSORES QUÍMICOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Novel Si field emission devices fabrication method based on HI-PS technique for gas sensors development. 2008, Anais.. Columbus: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo, 2008. . Acesso em: 19 jun. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., Kopelvski, M. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2008). Novel Si field emission devices fabrication method based on HI-PS technique for gas sensors development. In Proceedings. Columbus: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo.
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Kopelvski MM, Ramírez Fernandez FJ. Novel Si field emission devices fabrication method based on HI-PS technique for gas sensors development. Proceedings. 2008 ;[citado 2024 jun. 19 ]
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Kopelvski MM, Ramírez Fernandez FJ. Novel Si field emission devices fabrication method based on HI-PS technique for gas sensors development. Proceedings. 2008 ;[citado 2024 jun. 19 ]
Trabalho de evento
Silicon microtips sharpening method for field emission applications (2008)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Fonte: IBERSENSOR 2008: Anais. Nome do evento: Ibero-American Congress on Sensors. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Silicon microtips sharpening method for field emission applications. 2008, Anais.. São Paulo: IPT, 2008. . Acesso em: 19 jun. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2008). Silicon microtips sharpening method for field emission applications. In IBERSENSOR 2008: Anais. São Paulo: IPT.
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon microtips sharpening method for field emission applications. IBERSENSOR 2008: Anais. 2008 ;[citado 2024 jun. 19 ]
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon microtips sharpening method for field emission applications. IBERSENSOR 2008: Anais. 2008 ;[citado 2024 jun. 19 ]
Tese (Doutorado)
Desenvolvimento de dispositivos de emissão por efeito de campo elétrico fabricados pela técnica HI-PS (2008)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete (Orientador)
Unidade: EP
Assuntos: SILÍCIO, FABRICAÇÃO (MICROELETRÔNICA)
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva. Desenvolvimento de dispositivos de emissão por efeito de campo elétrico fabricados pela técnica HI-PS. 2008. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2008. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-01102008-103027/. Acesso em: 19 jun. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S. (2008). Desenvolvimento de dispositivos de emissão por efeito de campo elétrico fabricados pela técnica HI-PS (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-01102008-103027/
NLM
Dantas MO da S. Desenvolvimento de dispositivos de emissão por efeito de campo elétrico fabricados pela técnica HI-PS [Internet]. 2008 ;[citado 2024 jun. 19 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-01102008-103027/
Vancouver
Dantas MO da S. Desenvolvimento de dispositivos de emissão por efeito de campo elétrico fabricados pela técnica HI-PS [Internet]. 2008 ;[citado 2024 jun. 19 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-01102008-103027/
Artigo de periodico
Silicon field-emission devices fabricated using the hydrogen implantation-porous silicon (HI-PS) micromachining technique (2008)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Kopelvski, Maycon Max ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Fonte: Journal of Microelectrochemical Systems. Unidade: EP
Assuntos: SEMICONDUTORES, SILÍCIO
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Silicon field-emission devices fabricated using the hydrogen implantation-porous silicon (HI-PS) micromachining technique. Journal of Microelectrochemical Systems, v. 17, n. 5, p. 1263-1269, 2008Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1109/JMEMS.2008.927743. Acesso em: 19 jun. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., Kopelvski, M. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2008). Silicon field-emission devices fabricated using the hydrogen implantation-porous silicon (HI-PS) micromachining technique. Journal of Microelectrochemical Systems, 17( 5), 1263-1269. doi:10.1109/JMEMS.2008.927743
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Kopelvski MM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon field-emission devices fabricated using the hydrogen implantation-porous silicon (HI-PS) micromachining technique [Internet]. Journal of Microelectrochemical Systems. 2008 ; 17( 5): 1263-1269.[citado 2024 jun. 19 ] Available from: https://doi.org/10.1109/JMEMS.2008.927743
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Kopelvski MM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon field-emission devices fabricated using the hydrogen implantation-porous silicon (HI-PS) micromachining technique [Internet]. Journal of Microelectrochemical Systems. 2008 ; 17( 5): 1263-1269.[citado 2024 jun. 19 ] Available from: https://doi.org/10.1109/JMEMS.2008.927743
Trabalho de evento
Silicon microtips arrays fabricated by HI-PS technique for application in field emission devices (2007)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Kopelvski, Maycon Max ; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Fonte: SBMicro 2007. Nome do evento: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Silicon microtips arrays fabricated by HI-PS technique for application in field emission devices. 2007, Anais.. Pennington: The Electrochemical Society, 2007. Disponível em: https://doi.org/10.1149/1.2766920. Acesso em: 19 jun. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Kopelvski, M. M., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2007). Silicon microtips arrays fabricated by HI-PS technique for application in field emission devices. In SBMicro 2007. Pennington: The Electrochemical Society. doi:10.1149/1.2766920
NLM
Dantas MO da S, Kopelvski MM, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon microtips arrays fabricated by HI-PS technique for application in field emission devices [Internet]. SBMicro 2007. 2007 ;[citado 2024 jun. 19 ] Available from: https://doi.org/10.1149/1.2766920
Vancouver
Dantas MO da S, Kopelvski MM, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon microtips arrays fabricated by HI-PS technique for application in field emission devices [Internet]. SBMicro 2007. 2007 ;[citado 2024 jun. 19 ] Available from: https://doi.org/10.1149/1.2766920
Trabalho de evento
Integrated sensors and microsystems (2004)
Ramírez Fernandez, Francisco Javier ; Salcedo, Walter Jaimes ; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado
Fonte: NanoSemiMat-3.. Nome do evento: Workshop on Semiconductor Nanodevices and Nanostructured Materials. Unidade: EP
Assunto: NANOTECNOLOGIA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
RAMÍREZ FERNANDEZ, Francisco Javier et al. Integrated sensors and microsystems. 2004, Anais.. Brasília: MCT, 2004. . Acesso em: 19 jun. 2024.
APA
Ramírez Fernandez, F. J., Salcedo, W. J., Galeazzo, E., & Peres, H. E. M. (2004). Integrated sensors and microsystems. In NanoSemiMat-3.. Brasília: MCT.
NLM
Ramírez Fernandez FJ, Salcedo WJ, Galeazzo E, Peres HEM. Integrated sensors and microsystems. NanoSemiMat-3. 2004 ;[citado 2024 jun. 19 ]
Vancouver
Ramírez Fernandez FJ, Salcedo WJ, Galeazzo E, Peres HEM. Integrated sensors and microsystems. NanoSemiMat-3. 2004 ;[citado 2024 jun. 19 ]
Trabalho de evento
Porous silicon for gas sensor applications (2004)
Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Fonte: NanoSemiMat-3.. Nome do evento: Workshop on Semiconductor Nanodevices and Nanostructured Materials. Unidade: EP
Assunto: NANOTECNOLOGIA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
GALEAZZO, Elisabete e PERES, Henrique Estanislau Maldonado e RAMÍREZ FERNANDEZ, Francisco Javier. Porous silicon for gas sensor applications. 2004, Anais.. Brasília: MCT, 2004. . Acesso em: 19 jun. 2024.
APA
Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2004). Porous silicon for gas sensor applications. In NanoSemiMat-3.. Brasília: MCT.
NLM
Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon for gas sensor applications. NanoSemiMat-3. 2004 ;[citado 2024 jun. 19 ]
Vancouver
Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon for gas sensor applications. NanoSemiMat-3. 2004 ;[citado 2024 jun. 19 ]
Dissertação (Mestrado)
Obtenção de microestruturas de silício utilizando a tecnologia do silício poroso como camada sacrificial (2003)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete (Orientador)
Unidade: EP
Assuntos: SILÍCIO, CIRCUITOS INTEGRADOS, ANODIZAÇÃO
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva. Obtenção de microestruturas de silício utilizando a tecnologia do silício poroso como camada sacrificial. 2003. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2003. . Acesso em: 19 jun. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S. (2003). Obtenção de microestruturas de silício utilizando a tecnologia do silício poroso como camada sacrificial (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo.
NLM
Dantas MO da S. Obtenção de microestruturas de silício utilizando a tecnologia do silício poroso como camada sacrificial. 2003 ;[citado 2024 jun. 19 ]
Vancouver
Dantas MO da S. Obtenção de microestruturas de silício utilizando a tecnologia do silício poroso como camada sacrificial. 2003 ;[citado 2024 jun. 19 ]
Parte de monografia/livro
Electrochemical process for silicon tips fabrication (2003)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Fonte: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Nome do evento: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2003, São Paulo /. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Electrochemical process for silicon tips fabrication. Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Tradução . Pennington: Electrochemical Society, 2003. . . Acesso em: 19 jun. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2003). Electrochemical process for silicon tips fabrication. In Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society.
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Electrochemical process for silicon tips fabrication. In: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society; 2003. [citado 2024 jun. 19 ]
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Electrochemical process for silicon tips fabrication. In: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society; 2003. [citado 2024 jun. 19 ]
Artigo de periodico
Use of plasma polymerized highly polar organic compound films for sensor development (2003)
Nascimento Filho, Antonio Pereira do; Silva, Maria Lucia Pereira da; Galeazzo, Elisabete ; Demarquette, Nicole Raymonde
Fonte: Sensors and Actuators B : Chemical. Unidade: EP
Assuntos: POLIMERIZAÇÃO, PLASMA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
NASCIMENTO FILHO, Antonio Pereira do et al. Use of plasma polymerized highly polar organic compound films for sensor development. Sensors and Actuators B : Chemical, v. 91, n. 1-3, p. 370-377, 2003Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0925-4005(03)00111-4. Acesso em: 19 jun. 2024.
APA
Nascimento Filho, A. P. do, Silva, M. L. P. da, Galeazzo, E., & Demarquette, N. R. (2003). Use of plasma polymerized highly polar organic compound films for sensor development. Sensors and Actuators B : Chemical, 91( 1-3), 370-377. doi:10.1016/s0925-4005(03)00111-4
NLM
Nascimento Filho AP do, Silva MLP da, Galeazzo E, Demarquette NR. Use of plasma polymerized highly polar organic compound films for sensor development [Internet]. Sensors and Actuators B : Chemical. 2003 ; 91( 1-3): 370-377.[citado 2024 jun. 19 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0925-4005(03)00111-4
Vancouver
Nascimento Filho AP do, Silva MLP da, Galeazzo E, Demarquette NR. Use of plasma polymerized highly polar organic compound films for sensor development [Internet]. Sensors and Actuators B : Chemical. 2003 ; 91( 1-3): 370-377.[citado 2024 jun. 19 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0925-4005(03)00111-4
Parte de monografia/livro
Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication (2003)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Fonte: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003: proceedings. Nome do evento: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2003, São Paulo /. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003: proceedings. Tradução . Pennington: Electrochemical Society, 2003. . . Acesso em: 19 jun. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2003). Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. In Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003: proceedings. Pennington: Electrochemical Society.
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. In: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003: proceedings. Pennington: Electrochemical Society; 2003. [citado 2024 jun. 19 ]
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. In: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003: proceedings. Pennington: Electrochemical Society; 2003. [citado 2024 jun. 19 ]
Relatorio tecnico
Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication (2003)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Unidade: EP
Assuntos: MICROELETRÔNICA, SILÍCIO
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. . São Paulo: EPUSP. . Acesso em: 19 jun. 2024. , 2003
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2003). Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. São Paulo: EPUSP.
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. 2003 ;[citado 2024 jun. 19 ]
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. 2003 ;[citado 2024 jun. 19 ]
Artigo de periodico
Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process (2003)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Fonte: IEEE Sensors Journal,. Unidade: EP
Assuntos: NANOTECNOLOGIA, MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process. IEEE Sensors Journal, v. 3, n. 6, 2003Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1109/icsens.2002.1037163. Acesso em: 19 jun. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2003). Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process. IEEE Sensors Journal,, 3( 6). doi:10.1109/icsens.2002.1037163
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process [Internet]. IEEE Sensors Journal,. 2003 ; 3( 6):[citado 2024 jun. 19 ] Available from: https://doi.org/10.1109/icsens.2002.1037163
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process [Internet]. IEEE Sensors Journal,. 2003 ; 3( 6):[citado 2024 jun. 19 ] Available from: https://doi.org/10.1109/icsens.2002.1037163
Parte de monografia/livro
Porous silicon sacrifical layers applied on micromechanical structures fabrication (2002)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Fonte: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Porous silicon sacrifical layers applied on micromechanical structures fabrication. Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Tradução . Pennington: The Electrochemical Society, 2002. . . Acesso em: 19 jun. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2002). Porous silicon sacrifical layers applied on micromechanical structures fabrication. In Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society.
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon sacrifical layers applied on micromechanical structures fabrication. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society; 2002. [citado 2024 jun. 19 ]
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon sacrifical layers applied on micromechanical structures fabrication. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society; 2002. [citado 2024 jun. 19 ]
Trabalho de evento
Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process (2002)
Dantas, M. O. S.; Galeazzo, Elisabete ; Pees, H. E. M.; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Fonte: Proceedings. Nome do evento: Conference on Sensors. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, M. O. S. et al. Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process. 2002, Anais.. Piscataway: IEEE, 2002. . Acesso em: 19 jun. 2024.
APA
Dantas, M. O. S., Galeazzo, E., Pees, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2002). Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process. In Proceedings. Piscataway: IEEE.
NLM
Dantas MOS, Galeazzo E, Pees HEM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process. Proceedings. 2002 ;[citado 2024 jun. 19 ]
Vancouver
Dantas MOS, Galeazzo E, Pees HEM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process. Proceedings. 2002 ;[citado 2024 jun. 19 ]
Trabalho de evento-resumo
Responses of porous silicon to organic vapors (2002)
Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Santos, G; Ramírez Fernandez, Francisco Javier ; Peixoto, N.
Fonte: ISOEN'02. Nome do evento: International Symposium on Olfaction and Electronic Nose. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
GALEAZZO, Elisabete et al. Responses of porous silicon to organic vapors. 2002, Anais.. Rome: Centro Congresi Frentani, 2002. . Acesso em: 19 jun. 2024.
APA
Galeazzo, E., Peres, H. E. M., Santos, G., Ramírez Fernandez, F. J., & Peixoto, N. (2002). Responses of porous silicon to organic vapors. In ISOEN'02. Rome: Centro Congresi Frentani.
NLM
Galeazzo E, Peres HEM, Santos G, Ramírez Fernandez FJ, Peixoto N. Responses of porous silicon to organic vapors. ISOEN'02. 2002 ;[citado 2024 jun. 19 ]
Vancouver
Galeazzo E, Peres HEM, Santos G, Ramírez Fernandez FJ, Peixoto N. Responses of porous silicon to organic vapors. ISOEN'02. 2002 ;[citado 2024 jun. 19 ]
Trabalho de evento
Electrochemical process for MEMS fabrication (2002)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Fonte: IBERSENSOR 2002. Nome do evento: Congreso Iberoamericano de Sensores y Biosensores. Unidade: EP
Assunto: SENSORES ELETROMECÂNICOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Electrochemical process for MEMS fabrication. 2002, Anais.. Lima: Pontifícia Universidad Católica del Perú, 2002. . Acesso em: 19 jun. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2002). Electrochemical process for MEMS fabrication. In IBERSENSOR 2002. Lima: Pontifícia Universidad Católica del Perú.
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Electrochemical process for MEMS fabrication. IBERSENSOR 2002. 2002 ;[citado 2024 jun. 19 ]
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Electrochemical process for MEMS fabrication. IBERSENSOR 2002. 2002 ;[citado 2024 jun. 19 ]

Unidades USP

ReP

Filtros

Tipo de material

Departamento

Autores

Autores USP

Ano de publicação

Assuntos

Título da fonte

Editora

Nome do evento

País de publicação

Indexado em