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Trabalho de evento-resumo
OPTICAL AND ELECTRICAL CHARACTERIZATION OF TITANIUM OXIDE THIN FILMS (2020)
Mendonça, Bianca Jardim; Chubaci, José Fernando Diniz; Matsuoka, Masao; Silva, Antonio Ferreira da; Zambom, Luís da Silva ; Mansano, Ronaldo Domingues
Conference titles: Encontro de Outono da Sociedade Brasileira de Física. Unidades: IF, EP
Assunto: FILMES FINOS
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ABNT
MENDONÇA, Bianca Jardim et al. OPTICAL AND ELECTRICAL CHARACTERIZATION OF TITANIUM OXIDE THIN FILMS. 2020, Anais.. São Paulo: SBF-Sociedade Brasileira de Física, 2020. Disponível em: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0291-1.pdf. Acesso em: 17 jun. 2024.
APA
Mendonça, B. J., Chubaci, J. F. D., Matsuoka, M., Silva, A. F. da, Zambom, L. da S., & Mansano, R. D. (2020). OPTICAL AND ELECTRICAL CHARACTERIZATION OF TITANIUM OXIDE THIN FILMS. In . São Paulo: SBF-Sociedade Brasileira de Física. Recuperado de https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0291-1.pdf
NLM
Mendonça BJ, Chubaci JFD, Matsuoka M, Silva AF da, Zambom L da S, Mansano RD. OPTICAL AND ELECTRICAL CHARACTERIZATION OF TITANIUM OXIDE THIN FILMS [Internet]. 2020 ;[citado 2024 jun. 17 ] Available from: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0291-1.pdf
Vancouver
Mendonça BJ, Chubaci JFD, Matsuoka M, Silva AF da, Zambom L da S, Mansano RD. OPTICAL AND ELECTRICAL CHARACTERIZATION OF TITANIUM OXIDE THIN FILMS [Internet]. 2020 ;[citado 2024 jun. 17 ] Available from: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0291-1.pdf
Trabalho de evento-resumo
Estudo de anodos de ITO para OLEDS (2019)
Amaro, Augusto Anselmo; Zambom, Luís da Silva ; Mansano, Ronaldo Domingues ; Burini Junior, Elvo Calixto ; Wang, Shu Hui ; Santos, Emerson Roberto
Source: Resumos. Conference titles: Congresso de Tecnologia. Unidades: IEE, EP
Subjects: FILMES FINOS, EMISSÃO DA LUZ
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ABNT
AMARO, Augusto Anselmo et al. Estudo de anodos de ITO para OLEDS. 2019, Anais.. São Paulo: Fatec, 2019. . Acesso em: 17 jun. 2024.
APA
Amaro, A. A., Zambom, L. da S., Mansano, R. D., Burini Junior, E. C., Wang, S. H., & Santos, E. R. (2019). Estudo de anodos de ITO para OLEDS. In Resumos. São Paulo: Fatec.
NLM
Amaro AA, Zambom L da S, Mansano RD, Burini Junior EC, Wang SH, Santos ER. Estudo de anodos de ITO para OLEDS. Resumos. 2019 ;[citado 2024 jun. 17 ]
Vancouver
Amaro AA, Zambom L da S, Mansano RD, Burini Junior EC, Wang SH, Santos ER. Estudo de anodos de ITO para OLEDS. Resumos. 2019 ;[citado 2024 jun. 17 ]
Artigo de periodico
Estudo de anodos de ITO para OLEDS (2019)
Amaro, Augusto Anselmo; Zambom, Luís da Silva ; Mansano, Ronaldo Domingues ; Burini Junior, Elvo Calixto ; Wang, Shu Hui ; Santos, Emerson Roberto
Source: Boletim técnico da Faculdade de Tecnologia de São Paulo. Unidades: IEE, EP
Subjects: FILMES FINOS, EMISSÃO DA LUZ
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ABNT
AMARO, Augusto Anselmo et al. Estudo de anodos de ITO para OLEDS. Boletim técnico da Faculdade de Tecnologia de São Paulo, n. 48, p. 34, 2019Tradução . . Disponível em: http://bt.fatecsp.br/media/bulletins/bt48v2.pdf. Acesso em: 17 jun. 2024.
APA
Amaro, A. A., Zambom, L. da S., Mansano, R. D., Burini Junior, E. C., Wang, S. H., & Santos, E. R. (2019). Estudo de anodos de ITO para OLEDS. Boletim técnico da Faculdade de Tecnologia de São Paulo, (48), 34. Recuperado de http://bt.fatecsp.br/media/bulletins/bt48v2.pdf
NLM
Amaro AA, Zambom L da S, Mansano RD, Burini Junior EC, Wang SH, Santos ER. Estudo de anodos de ITO para OLEDS [Internet]. Boletim técnico da Faculdade de Tecnologia de São Paulo. 2019 ;(48): 34.[citado 2024 jun. 17 ] Available from: http://bt.fatecsp.br/media/bulletins/bt48v2.pdf
Vancouver
Amaro AA, Zambom L da S, Mansano RD, Burini Junior EC, Wang SH, Santos ER. Estudo de anodos de ITO para OLEDS [Internet]. Boletim técnico da Faculdade de Tecnologia de São Paulo. 2019 ;(48): 34.[citado 2024 jun. 17 ] Available from: http://bt.fatecsp.br/media/bulletins/bt48v2.pdf
Trabalho de evento-resumo
Production and Characterization of TiO2 Thin Films (2018)
Mendonça, Bianca Jardim; Chubaci, Jose Fernando Diniz; Soares, Renato Vasconcelos Coura; Goveia, Gilson Schaberle; Fidelis, Daniel Gonçalves; Mansano, Ronaldo Domingues ; Zambom, Luís da Silva
Source: Resumos. Conference titles: Encontro de Outono. Unidades: IF, EP
Subjects: FÍSICA, FILMES FINOS
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ABNT
MENDONÇA, Bianca Jardim et al. Production and Characterization of TiO2 Thin Films. 2018, Anais.. São Paulo: SBF, 2018. Disponível em: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xli/sys/resumos/R0474-1.pdf. Acesso em: 17 jun. 2024.
APA
Mendonça, B. J., Chubaci, J. F. D., Soares, R. V. C., Goveia, G. S., Fidelis, D. G., Mansano, R. D., & Zambom, L. da S. (2018). Production and Characterization of TiO2 Thin Films. In Resumos. São Paulo: SBF. Recuperado de https://sec.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xli/sys/resumos/R0474-1.pdf
NLM
Mendonça BJ, Chubaci JFD, Soares RVC, Goveia GS, Fidelis DG, Mansano RD, Zambom L da S. Production and Characterization of TiO2 Thin Films [Internet]. Resumos. 2018 ;[citado 2024 jun. 17 ] Available from: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xli/sys/resumos/R0474-1.pdf
Vancouver
Mendonça BJ, Chubaci JFD, Soares RVC, Goveia GS, Fidelis DG, Mansano RD, Zambom L da S. Production and Characterization of TiO2 Thin Films [Internet]. Resumos. 2018 ;[citado 2024 jun. 17 ] Available from: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xli/sys/resumos/R0474-1.pdf
Artigo de periodico
Ion implantation in titanium dioxide thin films studied by perturbed angular correlations (2017)
Schell, Juliana; Lupascu, Doru C; Carbonari, Artur Wilson; Mansano, Ronaldo Domingues ; Ribeiro Junior, Iberê Souza; Dang, Thien Thanh; Anusca, Irina; Trivedi, Harsh K; Johnston, Karl; Vianden, Reiner
Source: Journal of Applied Physics. Unidade: EP
Subjects: TEMPERATURA, RAIOS GAMA, FILMES FINOS
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ABNT
SCHELL, Juliana et al. Ion implantation in titanium dioxide thin films studied by perturbed angular correlations. Journal of Applied Physics, v. 121, n. 14, 2017Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1063/1.4980168. Acesso em: 17 jun. 2024.
APA
Schell, J., Lupascu, D. C., Carbonari, A. W., Mansano, R. D., Ribeiro Junior, I. S., Dang, T. T., et al. (2017). Ion implantation in titanium dioxide thin films studied by perturbed angular correlations. Journal of Applied Physics, 121( 14). doi:10.1063/1.4980168
NLM
Schell J, Lupascu DC, Carbonari AW, Mansano RD, Ribeiro Junior IS, Dang TT, Anusca I, Trivedi HK, Johnston K, Vianden R. Ion implantation in titanium dioxide thin films studied by perturbed angular correlations [Internet]. Journal of Applied Physics. 2017 ; 121( 14):[citado 2024 jun. 17 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.4980168
Vancouver
Schell J, Lupascu DC, Carbonari AW, Mansano RD, Ribeiro Junior IS, Dang TT, Anusca I, Trivedi HK, Johnston K, Vianden R. Ion implantation in titanium dioxide thin films studied by perturbed angular correlations [Internet]. Journal of Applied Physics. 2017 ; 121( 14):[citado 2024 jun. 17 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.4980168
Artigo de periodico
Implantation of cobalt in SnO2 thin films studied by TDPAC (2017)
Schell, Juliana; Dang, Thien Thanh; Viaden, Reiner; Mansano, Ronaldo Domingues ; Lupascu, Doru C; Carbonari, Artur Wilson
Source: AIP Advances. Unidade: EP
Subjects: FILMES FINOS, SEMICONDUTORES, CRISTALOGRAFIA FÍSICA
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ABNT
SCHELL, Juliana et al. Implantation of cobalt in SnO2 thin films studied by TDPAC. AIP Advances, v. 7, n. 5, 2017Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1063/1.4983270. Acesso em: 17 jun. 2024.
APA
Schell, J., Dang, T. T., Viaden, R., Mansano, R. D., Lupascu, D. C., & Carbonari, A. W. (2017). Implantation of cobalt in SnO2 thin films studied by TDPAC. AIP Advances, 7( 5). doi:10.1063/1.4983270
NLM
Schell J, Dang TT, Viaden R, Mansano RD, Lupascu DC, Carbonari AW. Implantation of cobalt in SnO2 thin films studied by TDPAC [Internet]. AIP Advances. 2017 ; 7( 5):[citado 2024 jun. 17 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.4983270
Vancouver
Schell J, Dang TT, Viaden R, Mansano RD, Lupascu DC, Carbonari AW. Implantation of cobalt in SnO2 thin films studied by TDPAC [Internet]. AIP Advances. 2017 ; 7( 5):[citado 2024 jun. 17 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.4983270
Artigo de periodico
Cd and In-doping in thin film SnO2 (2017)
Schell, Juliana; Lupascu, Doru C; Carbonari, Artur Wilson; Mansano, Ronaldo Domingues ; Freitas, Rafael Sá de; Gonçalves, João Nuno; Dang, Thien Thanh; Vianden, Reiner
Source: Journal of Applied Physics. Unidades: EP, IF
Subjects: MAGNETISMO, FENOMENOS MAGNÉTICOS, FILMES FINOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SCHELL, Juliana et al. Cd and In-doping in thin film SnO2. Journal of Applied Physics, v. 121, n. 19, p. 195303/1-195303/6, 2017Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1063/1.4983669. Acesso em: 17 jun. 2024.
APA
Schell, J., Lupascu, D. C., Carbonari, A. W., Mansano, R. D., Freitas, R. S. de, Gonçalves, J. N., et al. (2017). Cd and In-doping in thin film SnO2. Journal of Applied Physics, 121( 19), 195303/1-195303/6. doi:10.1063/1.4983669
NLM
Schell J, Lupascu DC, Carbonari AW, Mansano RD, Freitas RS de, Gonçalves JN, Dang TT, Vianden R. Cd and In-doping in thin film SnO2 [Internet]. Journal of Applied Physics. 2017 ; 121( 19): 195303/1-195303/6.[citado 2024 jun. 17 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.4983669
Vancouver
Schell J, Lupascu DC, Carbonari AW, Mansano RD, Freitas RS de, Gonçalves JN, Dang TT, Vianden R. Cd and In-doping in thin film SnO2 [Internet]. Journal of Applied Physics. 2017 ; 121( 19): 195303/1-195303/6.[citado 2024 jun. 17 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.4983669
Trabalho de evento-anais periodico
p-ZnO Thin Films Deposited by RF-Magnetron Sputtering (2015)
Zambom, Luís da Silva ; Mansano, Ronaldo Domingues
Source: Journal of Physics: Conference Series. Conference titles: IAEA TM on Research Using Small Fusion Devices (RUSFD). Unidade: EP
Assunto: FILMES FINOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ZAMBOM, Luís da Silva e MANSANO, Ronaldo Domingues. p-ZnO Thin Films Deposited by RF-Magnetron Sputtering. Journal of Physics: Conference Series. [S.l.]: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo. Disponível em: https://doi.org/10.1088/1742-6596/591/1/012040. Acesso em: 17 jun. 2024. , 2015
APA
Zambom, L. da S., & Mansano, R. D. (2015). p-ZnO Thin Films Deposited by RF-Magnetron Sputtering. Journal of Physics: Conference Series. Escola Politécnica, Universidade de São Paulo. doi:10.1088/1742-6596/591/1/012040
NLM
Zambom L da S, Mansano RD. p-ZnO Thin Films Deposited by RF-Magnetron Sputtering [Internet]. Journal of Physics: Conference Series. 2015 ; 591[citado 2024 jun. 17 ] Available from: https://doi.org/10.1088/1742-6596/591/1/012040
Vancouver
Zambom L da S, Mansano RD. p-ZnO Thin Films Deposited by RF-Magnetron Sputtering [Internet]. Journal of Physics: Conference Series. 2015 ; 591[citado 2024 jun. 17 ] Available from: https://doi.org/10.1088/1742-6596/591/1/012040
Trabalho de evento-anais periodico
Nanostructured diamond-like carbon films characterization (2010)
Mousinho, Ana Paula; Mansano, Ronaldo Domingues ; Salvadori, Maria Cecília Barbosa da Silveira
Source: Journal of Alloys and Compounds. Conference titles: International Symposium on Metastable, Amorphous and Nanostructured Materials. Unidades: EP, IF
Subjects: FILMES FINOS, NANOPARTÍCULAS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MOUSINHO, Ana Paula e MANSANO, Ronaldo Domingues e SALVADORI, Maria Cecília Barbosa da Silveira. Nanostructured diamond-like carbon films characterization. Journal of Alloys and Compounds. Amsterdam: Elsevier Science. Disponível em: http://www.sciencedirect.com/science/journal/09258388. Acesso em: 17 jun. 2024. , 2010
APA
Mousinho, A. P., Mansano, R. D., & Salvadori, M. C. B. da S. (2010). Nanostructured diamond-like carbon films characterization. Journal of Alloys and Compounds. Amsterdam: Elsevier Science. Recuperado de http://www.sciencedirect.com/science/journal/09258388
NLM
Mousinho AP, Mansano RD, Salvadori MCB da S. Nanostructured diamond-like carbon films characterization [Internet]. Journal of Alloys and Compounds. 2010 ; 495 620-624.[citado 2024 jun. 17 ] Available from: http://www.sciencedirect.com/science/journal/09258388
Vancouver
Mousinho AP, Mansano RD, Salvadori MCB da S. Nanostructured diamond-like carbon films characterization [Internet]. Journal of Alloys and Compounds. 2010 ; 495 620-624.[citado 2024 jun. 17 ] Available from: http://www.sciencedirect.com/science/journal/09258388
Artigo de periodico
Piezoresistive response of ITO films deposited at room temperature by magnetron sputtering (2010)
Rasia, Luiz Antônio; Mansano, Ronaldo Domingues ; Damiani, Larissa Rodrigues; Viana, C. E.
Source: Journal of materials science. Unidade: EP
Assunto: FILMES FINOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
RASIA, Luiz Antônio et al. Piezoresistive response of ITO films deposited at room temperature by magnetron sputtering. Journal of materials science, v. 45, n. 15, p. 4224-4228, 2010Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1007/s10853-010-4517-1. Acesso em: 17 jun. 2024.
APA
Rasia, L. A., Mansano, R. D., Damiani, L. R., & Viana, C. E. (2010). Piezoresistive response of ITO films deposited at room temperature by magnetron sputtering. Journal of materials science, 45( 15), 4224-4228. doi:10.1007/s10853-010-4517-1
NLM
Rasia LA, Mansano RD, Damiani LR, Viana CE. Piezoresistive response of ITO films deposited at room temperature by magnetron sputtering [Internet]. Journal of materials science. 2010 ;45( 15): 4224-4228.[citado 2024 jun. 17 ] Available from: https://doi.org/10.1007/s10853-010-4517-1
Vancouver
Rasia LA, Mansano RD, Damiani LR, Viana CE. Piezoresistive response of ITO films deposited at room temperature by magnetron sputtering [Internet]. Journal of materials science. 2010 ;45( 15): 4224-4228.[citado 2024 jun. 17 ] Available from: https://doi.org/10.1007/s10853-010-4517-1
Trabalho de evento-resumo
Hydrogen influence on optical and electrical properties of nanostructured indium nitride (InN) films (2009)
Sparvoli, Marina; Mansano, Ronaldo Domingues ; Chubaci, Jose Fernando Diniz
Source: Resumo. Conference titles: Encontro Brasileiro de Física dos Plasmas. Unidades: IF, EP
Subjects: FÍSICA DE PLASMAS, FILMES FINOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SPARVOLI, Marina e MANSANO, Ronaldo Domingues e CHUBACI, Jose Fernando Diniz. Hydrogen influence on optical and electrical properties of nanostructured indium nitride (InN) films. 2009, Anais.. São Paulo: SBF, 2009. Disponível em: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/ebfp/10/sys/resumos/R0052-1.pdf. Acesso em: 17 jun. 2024.
APA
Sparvoli, M., Mansano, R. D., & Chubaci, J. F. D. (2009). Hydrogen influence on optical and electrical properties of nanostructured indium nitride (InN) films. In Resumo. São Paulo: SBF. Recuperado de http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/ebfp/10/sys/resumos/R0052-1.pdf
NLM
Sparvoli M, Mansano RD, Chubaci JFD. Hydrogen influence on optical and electrical properties of nanostructured indium nitride (InN) films [Internet]. Resumo. 2009 ;[citado 2024 jun. 17 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/ebfp/10/sys/resumos/R0052-1.pdf
Vancouver
Sparvoli M, Mansano RD, Chubaci JFD. Hydrogen influence on optical and electrical properties of nanostructured indium nitride (InN) films [Internet]. Resumo. 2009 ;[citado 2024 jun. 17 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/ebfp/10/sys/resumos/R0052-1.pdf
Artigo de periodico
Influence of substrate surface topography in the deposition of nanostructured diamond-like carbon films by high density plasma chemical vapor deposition (2009)
Mousinho, Ana Paulo; Mansano, Ronaldo Domingues ; Salvadori, Maria Cecília Barbosa da Silveira
Source: Surface & Coatings Technology. Unidades: EP, IF
Subjects: NANOTECNOLOGIA, FILMES FINOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MOUSINHO, Ana Paulo e MANSANO, Ronaldo Domingues e SALVADORI, Maria Cecília Barbosa da Silveira. Influence of substrate surface topography in the deposition of nanostructured diamond-like carbon films by high density plasma chemical vapor deposition. Surface & Coatings Technology, v. 203, n. 9, p. 1193-1198, 2009Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2008.10.025. Acesso em: 17 jun. 2024.
APA
Mousinho, A. P., Mansano, R. D., & Salvadori, M. C. B. da S. (2009). Influence of substrate surface topography in the deposition of nanostructured diamond-like carbon films by high density plasma chemical vapor deposition. Surface & Coatings Technology, 203( 9), 1193-1198. doi:10.1016/j.surfcoat.2008.10.025
NLM
Mousinho AP, Mansano RD, Salvadori MCB da S. Influence of substrate surface topography in the deposition of nanostructured diamond-like carbon films by high density plasma chemical vapor deposition [Internet]. Surface & Coatings Technology. 2009 ; 203( 9): 1193-1198.[citado 2024 jun. 17 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2008.10.025
Vancouver
Mousinho AP, Mansano RD, Salvadori MCB da S. Influence of substrate surface topography in the deposition of nanostructured diamond-like carbon films by high density plasma chemical vapor deposition [Internet]. Surface & Coatings Technology. 2009 ; 203( 9): 1193-1198.[citado 2024 jun. 17 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2008.10.025
Trabalho de evento-resumo
Nano-structured diamond-like carbon films obtained by high density plasma chemical vapor deposition (2008)
Mansano, Ronaldo Domingues ; Mousinho, Ana Paula; Salvadori, Maria Cecília Barbosa da Silveira
Source: Resumo. Conference titles: Encontro Nacional de Física da Matéria Condensada. Unidades: EP, IF
Subjects: FÍSICA DA MATÉRIA CONDENSADA, MATERIAIS NANOESTRUTURADOS, FILMES FINOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MANSANO, Ronaldo Domingues e MOUSINHO, Ana Paula e SALVADORI, Maria Cecília Barbosa da Silveira. Nano-structured diamond-like carbon films obtained by high density plasma chemical vapor deposition. 2008, Anais.. São Paulo: SBF, 2008. Disponível em: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxxi/sys/resumos/R0145-3.pdf. Acesso em: 17 jun. 2024.
APA
Mansano, R. D., Mousinho, A. P., & Salvadori, M. C. B. da S. (2008). Nano-structured diamond-like carbon films obtained by high density plasma chemical vapor deposition. In Resumo. São Paulo: SBF. Recuperado de http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxxi/sys/resumos/R0145-3.pdf
NLM
Mansano RD, Mousinho AP, Salvadori MCB da S. Nano-structured diamond-like carbon films obtained by high density plasma chemical vapor deposition [Internet]. Resumo. 2008 ;[citado 2024 jun. 17 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxxi/sys/resumos/R0145-3.pdf
Vancouver
Mansano RD, Mousinho AP, Salvadori MCB da S. Nano-structured diamond-like carbon films obtained by high density plasma chemical vapor deposition [Internet]. Resumo. 2008 ;[citado 2024 jun. 17 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxxi/sys/resumos/R0145-3.pdf
Trabalho de evento-resumo
Caracterização de filmes de silício amorfo depositados por sputtering e dopados com fósforo para a fabricação de transistor de filme fino (2008)
Nunes, Carolina Carvalho Previdi; Mansano, Ronaldo Domingues ; Zambon, Luís da Silva ; Tabacniks, Manfredo Harri
Source: Resumo. Conference titles: Encontro Nacional de Física da Matéria Condensada. Unidades: EP, IF
Subjects: FÍSICA DA MATÉRIA CONDENSADA, FILMES FINOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
NUNES, Carolina Carvalho Previdi et al. Caracterização de filmes de silício amorfo depositados por sputtering e dopados com fósforo para a fabricação de transistor de filme fino. 2008, Anais.. São Paulo: SBF, 2008. Disponível em: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxxi/sys/resumos/R0829-1.pdf. Acesso em: 17 jun. 2024.
APA
Nunes, C. C. P., Mansano, R. D., Zambon, L. da S., & Tabacniks, M. H. (2008). Caracterização de filmes de silício amorfo depositados por sputtering e dopados com fósforo para a fabricação de transistor de filme fino. In Resumo. São Paulo: SBF. Recuperado de http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxxi/sys/resumos/R0829-1.pdf
NLM
Nunes CCP, Mansano RD, Zambon L da S, Tabacniks MH. Caracterização de filmes de silício amorfo depositados por sputtering e dopados com fósforo para a fabricação de transistor de filme fino [Internet]. Resumo. 2008 ;[citado 2024 jun. 17 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxxi/sys/resumos/R0829-1.pdf
Vancouver
Nunes CCP, Mansano RD, Zambon L da S, Tabacniks MH. Caracterização de filmes de silício amorfo depositados por sputtering e dopados com fósforo para a fabricação de transistor de filme fino [Internet]. Resumo. 2008 ;[citado 2024 jun. 17 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxxi/sys/resumos/R0829-1.pdf
Trabalho de evento
Deposition and characterization of indium-tin oxide thin films deposited by RF sputtering (2007)
Damiani, Larissa Rodrigues; Mansano, Ronaldo Domingues
Source: SBMicro 2007. Conference titles: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO. Unidade: EP
Subjects: MICROELETRÔNICA, FILMES FINOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DAMIANI, Larissa Rodrigues e MANSANO, Ronaldo Domingues. Deposition and characterization of indium-tin oxide thin films deposited by RF sputtering. 2007, Anais.. Pennington: The Electrochemical Society, 2007. . Acesso em: 17 jun. 2024.
APA
Damiani, L. R., & Mansano, R. D. (2007). Deposition and characterization of indium-tin oxide thin films deposited by RF sputtering. In SBMicro 2007. Pennington: The Electrochemical Society.
NLM
Damiani LR, Mansano RD. Deposition and characterization of indium-tin oxide thin films deposited by RF sputtering. SBMicro 2007. 2007 ;[citado 2024 jun. 17 ]
Vancouver
Damiani LR, Mansano RD. Deposition and characterization of indium-tin oxide thin films deposited by RF sputtering. SBMicro 2007. 2007 ;[citado 2024 jun. 17 ]
Trabalho de evento-resumo
Anisotropia de resistividade elétrica em filmes finos nanoestruturados (2007)
Teixeira, Fernanda de Sá; Mansano, Ronaldo Domingues ; Salvadori, Maria Cecília Barbosa da Silveira; Cattani, Mauro Sérgio Dorsa ; Brown, Ian G
Source: Resumo. Conference titles: Encontro Nacional de Física da Materia Condensada. Unidades: IF, EP
Subjects: FÍSICA DA MATÉRIA CONDENSADA, FILMES FINOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
TEIXEIRA, Fernanda de Sá et al. Anisotropia de resistividade elétrica em filmes finos nanoestruturados. 2007, Anais.. São Paulo: SBF, 2007. Disponível em: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxx/sys/resumos/R0230-7.pdf. Acesso em: 17 jun. 2024.
APA
Teixeira, F. de S., Mansano, R. D., Salvadori, M. C. B. da S., Cattani, M. S. D., & Brown, I. G. (2007). Anisotropia de resistividade elétrica em filmes finos nanoestruturados. In Resumo. São Paulo: SBF. Recuperado de http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxx/sys/resumos/R0230-7.pdf
NLM
Teixeira F de S, Mansano RD, Salvadori MCB da S, Cattani MSD, Brown IG. Anisotropia de resistividade elétrica em filmes finos nanoestruturados [Internet]. Resumo. 2007 ;[citado 2024 jun. 17 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxx/sys/resumos/R0230-7.pdf
Vancouver
Teixeira F de S, Mansano RD, Salvadori MCB da S, Cattani MSD, Brown IG. Anisotropia de resistividade elétrica em filmes finos nanoestruturados [Internet]. Resumo. 2007 ;[citado 2024 jun. 17 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxx/sys/resumos/R0230-7.pdf
Trabalho de evento
The influence of additives on electrical characteristics of DLC films deposited by reactive sputtering (2004)
Mansano, Ronaldo Domingues ; Mousinho, Ana Paula; Zambom, Luís da Silva ; Medeiros, Marina Sparvoli de; Verdonck, Patrick Bernard; Guerino, M.; Massi, Marcos
Source: Microelectronics technology and devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. Conference titles: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO. Unidade: EP
Subjects: MICROELETRÔNICA, FILMES FINOS
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ABNT
MANSANO, Ronaldo Domingues et al. The influence of additives on electrical characteristics of DLC films deposited by reactive sputtering. 2004, Anais.. Pennington: The Electrochemical Society, 2004. . Acesso em: 17 jun. 2024.
APA
Mansano, R. D., Mousinho, A. P., Zambom, L. da S., Medeiros, M. S. de, Verdonck, P. B., Guerino, M., & Massi, M. (2004). The influence of additives on electrical characteristics of DLC films deposited by reactive sputtering. In Microelectronics technology and devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. Pennington: The Electrochemical Society.
NLM
Mansano RD, Mousinho AP, Zambom L da S, Medeiros MS de, Verdonck PB, Guerino M, Massi M. The influence of additives on electrical characteristics of DLC films deposited by reactive sputtering. Microelectronics technology and devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. 2004 ;[citado 2024 jun. 17 ]
Vancouver
Mansano RD, Mousinho AP, Zambom L da S, Medeiros MS de, Verdonck PB, Guerino M, Massi M. The influence of additives on electrical characteristics of DLC films deposited by reactive sputtering. Microelectronics technology and devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. 2004 ;[citado 2024 jun. 17 ]
Artigo de periodico
High-density plasma chemical vapor deposition of amorphous carbon films (2004)
Mousinho, Ana Paula; Mansano, Ronaldo Domingues ; Verdonck, Patrick Bernard
Source: Diamond and Related Materials,. Unidade: EP
Assunto: FILMES FINOS
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ABNT
MOUSINHO, Ana Paula e MANSANO, Ronaldo Domingues e VERDONCK, Patrick Bernard. High-density plasma chemical vapor deposition of amorphous carbon films. Diamond and Related Materials, v. 13, n. 2, p. 311-315, 2004Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.diamond.2003.10.024. Acesso em: 17 jun. 2024.
APA
Mousinho, A. P., Mansano, R. D., & Verdonck, P. B. (2004). High-density plasma chemical vapor deposition of amorphous carbon films. Diamond and Related Materials,, 13( 2), 311-315. doi:10.1016/j.diamond.2003.10.024
NLM
Mousinho AP, Mansano RD, Verdonck PB. High-density plasma chemical vapor deposition of amorphous carbon films [Internet]. Diamond and Related Materials,. 2004 ; 13( 2): 311-315.[citado 2024 jun. 17 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.diamond.2003.10.024
Vancouver
Mousinho AP, Mansano RD, Verdonck PB. High-density plasma chemical vapor deposition of amorphous carbon films [Internet]. Diamond and Related Materials,. 2004 ; 13( 2): 311-315.[citado 2024 jun. 17 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.diamond.2003.10.024
Artigo de periodico
The influence of nitrogen on the dielectric constant and surface hardness in diamond-like carbon (DLC) films (2004)
Guerino, M.; Massi, Marcos; Maciel, Homero Santiago; Otani, C.; Mansano, Ronaldo Domingues ; Verdonck, Patrick Bernard; Libardi, J.
Source: Diamond and Related Materials,. Unidade: EP
Assunto: FILMES FINOS
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ABNT
GUERINO, M. et al. The influence of nitrogen on the dielectric constant and surface hardness in diamond-like carbon (DLC) films. Diamond and Related Materials, v. 13, n. 2, p. 316-319, 2004Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.diamond.2003.10.016. Acesso em: 17 jun. 2024.
APA
Guerino, M., Massi, M., Maciel, H. S., Otani, C., Mansano, R. D., Verdonck, P. B., & Libardi, J. (2004). The influence of nitrogen on the dielectric constant and surface hardness in diamond-like carbon (DLC) films. Diamond and Related Materials,, 13( 2), 316-319. doi:10.1016/j.diamond.2003.10.016
NLM
Guerino M, Massi M, Maciel HS, Otani C, Mansano RD, Verdonck PB, Libardi J. The influence of nitrogen on the dielectric constant and surface hardness in diamond-like carbon (DLC) films [Internet]. Diamond and Related Materials,. 2004 ; 13( 2): 316-319.[citado 2024 jun. 17 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.diamond.2003.10.016
Vancouver
Guerino M, Massi M, Maciel HS, Otani C, Mansano RD, Verdonck PB, Libardi J. The influence of nitrogen on the dielectric constant and surface hardness in diamond-like carbon (DLC) films [Internet]. Diamond and Related Materials,. 2004 ; 13( 2): 316-319.[citado 2024 jun. 17 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.diamond.2003.10.016
Artigo de periodico
Protective carbon layer for chemical corrosion of stainless steel (2003)
Mansano, Ronaldo Domingues ; Massi, Marcos; Santos, Ana Paula Mousinho dos; Zambom, Luís da Silva ; Gonçalves Neto, Luíz
Source: Diamond and Related Materials. Unidades: EESC, EP
Subjects: FILMES FINOS, CORROSÃO DOS MATERIAIS, AÇO INOXIDÁVEL
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MANSANO, Ronaldo Domingues et al. Protective carbon layer for chemical corrosion of stainless steel. Diamond and Related Materials, v. 12, n. 3-7, p. 749-752, 2003Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0925-9635(02)00270-4. Acesso em: 17 jun. 2024.
APA
Mansano, R. D., Massi, M., Santos, A. P. M. dos, Zambom, L. da S., & Gonçalves Neto, L. (2003). Protective carbon layer for chemical corrosion of stainless steel. Diamond and Related Materials, 12( 3-7), 749-752. doi:10.1016/s0925-9635(02)00270-4
NLM
Mansano RD, Massi M, Santos APM dos, Zambom L da S, Gonçalves Neto L. Protective carbon layer for chemical corrosion of stainless steel [Internet]. Diamond and Related Materials. 2003 ; 12( 3-7): 749-752.[citado 2024 jun. 17 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0925-9635(02)00270-4
Vancouver
Mansano RD, Massi M, Santos APM dos, Zambom L da S, Gonçalves Neto L. Protective carbon layer for chemical corrosion of stainless steel [Internet]. Diamond and Related Materials. 2003 ; 12( 3-7): 749-752.[citado 2024 jun. 17 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0925-9635(02)00270-4

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