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Tese (Doutorado)
Modelagem e simulação de uma bomba multifásica de duplo parafuso com recirculação interna (2016)
Ramirez Duque, José Luis Gerardo; Oliveira Júnior, Silvio de (Orientador)
Unidade: EP
Assuntos: TRANSFERÊNCIA DE CALOR, EXPANSÃO DO CALOR, FONTES ALTERNATIVAS DE ENERGIA, BOMBAS DE CALOR
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
RAMIREZ DUQUE, José Luis Gerardo. Modelagem e simulação de uma bomba multifásica de duplo parafuso com recirculação interna. 2016. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2016. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3150/tde-09122016-104642/. Acesso em: 14 nov. 2024.
APA
Ramirez Duque, J. L. G. (2016). Modelagem e simulação de uma bomba multifásica de duplo parafuso com recirculação interna (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3150/tde-09122016-104642/
NLM
Ramirez Duque JLG. Modelagem e simulação de uma bomba multifásica de duplo parafuso com recirculação interna [Internet]. 2016 ;[citado 2024 nov. 14 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3150/tde-09122016-104642/
Vancouver
Ramirez Duque JLG. Modelagem e simulação de uma bomba multifásica de duplo parafuso com recirculação interna [Internet]. 2016 ;[citado 2024 nov. 14 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3150/tde-09122016-104642/
Artigo de periodico
Crystallization, stress, and stress-relieve due to nickel in amorphous silicon thin films (2007)
Zanatta, Antonio Ricardo ; Ferri, Fabio Aparecido
Fonte: Journal of Applied Physics. Unidade: IFSC
Assuntos: CRISTALIZAÇÃO, FILMES FINOS, SILICIO, EXPANSÃO DO CALOR
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ZANATTA, Antonio Ricardo e FERRI, Fabio Aparecido. Crystallization, stress, and stress-relieve due to nickel in amorphous silicon thin films. Journal of Applied Physics, v. 102, n. 4, p. 043509-1-043509-5, 2007Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1063/1.2770823. Acesso em: 14 nov. 2024.
APA
Zanatta, A. R., & Ferri, F. A. (2007). Crystallization, stress, and stress-relieve due to nickel in amorphous silicon thin films. Journal of Applied Physics, 102( 4), 043509-1-043509-5. doi:10.1063/1.2770823
NLM
Zanatta AR, Ferri FA. Crystallization, stress, and stress-relieve due to nickel in amorphous silicon thin films [Internet]. Journal of Applied Physics. 2007 ; 102( 4): 043509-1-043509-5.[citado 2024 nov. 14 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.2770823
Vancouver
Zanatta AR, Ferri FA. Crystallization, stress, and stress-relieve due to nickel in amorphous silicon thin films [Internet]. Journal of Applied Physics. 2007 ; 102( 4): 043509-1-043509-5.[citado 2024 nov. 14 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.2770823

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